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Optimization of electron beam lithography and application to quantum dot devices
电子束光刻的优化及其在量子点器件中的应用
基本信息
- 批准号：379800-2008
- 负责人：
- 金额：$ 0.33万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：University Undergraduate Student Research Awards
- 财政年份：2008
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2008-01-01 至 2009-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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Mracek, James其他文献
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