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Large area gratings on thin silicon nitride membranes using electron beam lithography
使用电子束光刻在氮化硅薄膜上制作大面积光栅
基本信息
- 批准号：401709-2010
- 负责人：
- 金额：$ 1.78万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Engage Grants Program
- 财政年份：2010
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2010-01-01 至 2011-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
The proposed industrial collaboration between the applicant and Applied Nanotools (ANT) is aimed at
申请人和应用纳米工具（ANT）之间拟议的工业合作旨在
项目成果
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科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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Aitchison, Stewart其他文献
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