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Etching and characterization of thin films for semiconductor applications

Etching and characterization of thin films for semiconductor applications
半导体应用薄膜的蚀刻和表征
批准号：
532128-2018
负责人：
Crouch, AdamAndrew
金额：
$0.31万
依托单位：
SEASTAR CHEMICALS Inc.
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Experience Awards (previously Industrial Undergraduate Student Research Awards)
财政年份：
2018
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-01-01 至 2019-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=648333
关键词：
Etchingcharacterizationthinfilmssemiconductor

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Etching and characterization of thin films for semiconductor applications
  • 批准号：
    509199-2017
  • 项目类别：
    Experience Awards (previously Industrial Undergraduate Student Research Awards)
  • 资助金额：
    $0.33万
  • 财政年份：
    2017
  • 负责人：
    Crouch, AdamAndrew
  • 依托单位：
    SEASTAR CHEMICALS Inc.
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