稀土掺杂宽能隙III族氮化物薄膜的特性研究和应用探索
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:90201029
- 项目类别:重大研究计划
- 资助金额:24.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0509.光学和光电子材料
- 结题年份:2005
- 批准年份:2002
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2003-01-01 至2005-12-31
- 项目参与者:伍长征; 莫应安; 孙剑; 凌浩; 施维; 潘伟剑; 沈小康;
- 关键词:
项目摘要
稀土掺杂材料是重要的光电子功能材料,稀土掺杂宽能隙III族氮化物具有更为优越的光电子特性。探索一种制备稀土掺杂III族氮化物薄膜的新方法,在材料制备的基础上,通过样品光发射特性的观察,特别是考察激励和弛豫的动态过程,探讨内在机制,了解基质材料的能隙宽度对发光特性的影响,探寻减小热淬灭、提高发光效率的途径,并进行材料的应用探索。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(1)
专利数量(0)
Spectroscopic study on pulsed laser ablation of graphite target in ECR nitrogen plasma for carbon nitride film deposition
ECR氮等离子体中脉冲激光烧蚀石墨靶材氮化碳薄膜沉积的光谱研究
- DOI:10.1016/j.diamond.2005.10.015
- 发表时间:2006-09
- 期刊:Diamond Rel. Mater.
- 影响因子:--
- 作者:沈小康;孙剑;许宁等
- 通讯作者:许宁等
A study of nanostructures of thin films in B-C-N system produced by pulsed laser deposition and nitrogen ion-beam assisted pulsed laser deposition
脉冲激光沉积和氮离子束辅助脉冲激光沉积B-C-N体系薄膜纳米结构的研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:J. Mater. Res.
- 影响因子:--
- 作者:S;ip Bysakh;K. Chattopadhya;凌浩等
- 通讯作者:凌浩等
Arsenic doping for synthesis of nanocrystalline p-type ZnO thin films
砷掺杂合成纳米晶 p 型 ZnO 薄膜
- DOI:10.1116/1.2194939
- 发表时间:2006-04
- 期刊:J. Vac. Sci. Technol. A
- 影响因子:--
- 作者:许宁;徐莹亮;李丽等
- 通讯作者:李丽等
Electron cyclotron resonance plasma assisted pulsed laser deposition for compound host film synthesis and in situ doping
用于化合物基质膜合成和原位掺杂的电子回旋共振等离子体辅助脉冲激光沉积
- DOI:10.1116/1.2186653
- 发表时间:2006-04
- 期刊:J. Vac. Sci. Technol. A
- 影响因子:--
- 作者:卢意飞;孙剑;俞丹等
- 通讯作者:俞丹等
Spectroscopic study on the evolution of graphite ablation plume in ECR argon plasma during the deposition of diamond-like carbon films
ECR氩等离子体沉积类金刚石碳膜过程中石墨烧蚀羽流演变的光谱研究
- DOI:10.1016/j.diamond.2006.04.007
- 发表时间:2007
- 期刊:Diamond Rel. Mater.
- 影响因子:--
- 作者:宫兆松;孙剑;许宁等
- 通讯作者:许宁等
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其他文献
Low-temperature synthesis of AIN films through electron cyclotron resonance plasma adided reactive pulsed laser deposition
电子回旋共振等离子体辅助反应脉冲激光沉积低温合成 AIN 薄膜
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Appl. Phys. A,
- 影响因子:--
- 作者:孙剑;吴嘉达;应质峰等
- 通讯作者:应质峰等
激光诱导等离子体在真空和低压非活性气氛中的演变
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:物理与工程
- 影响因子:--
- 作者:应质峰等;吴嘉达;凌浩
- 通讯作者:凌浩
Influences of substrate bias on the composition and structure of carbon nitride thin films prepared by ECR-plasma assisted pulsed laser deposition
衬底偏压对ECR-等离子体辅助脉冲激光沉积氮化碳薄膜成分和结构的影响
- DOI:10.1016/s0925-9635(02)00101-2
- 发表时间:2002-08
- 期刊:Diamond Rel. Mater.
- 影响因子:--
- 作者:凌浩;吴嘉达;孙剑等
- 通讯作者:孙剑等
退火对CNX薄膜光学性质的影响
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Chinese J. Infrared Millim. Waves,22,213-216(2003)
- 影响因子:--
- 作者:郜小勇;张晋敏;凌浩;王松有;吴嘉达;杨月梅;陈良尧
- 通讯作者:陈良尧
Preparation of AlN films by pulsed laser deposition using sintered aluminum nitride and elemental aluminum as raw materials
以烧结氮化铝和单质铝为原料脉冲激光沉积制备AlN薄膜
- DOI:10.1116/1.1329119
- 发表时间:2001-01
- 期刊:J. Vac. Sci. Technol. A
- 影响因子:--
- 作者:吴嘉达;孙剑;应质峰等
- 通讯作者:应质峰等
其他文献
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