ECR-PLA等离子体的时空运动、激发增强和气相反应
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:10875029
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:35.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:A2901.等离子体基本过程与特性
- 结题年份:2011
- 批准年份:2008
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2009-01-01 至2011-12-31
- 项目参与者:戴祝萍; 莫应安; 张尉; 沈轶群; 冯慧; 高昆;
- 关键词:
项目摘要
低温等离子体在材料领域的应用日益广泛,应用技术的发展又促进了等离子体基本过程与特性的研究。由ECR微波放电和脉冲激光烧蚀联合作用引发的ECR-PLA等离子体具有独特的性质,还会引发新的物理和化学过程,在材料制备和处理上具有独到的应用效果。ECR-PLA等离子体基本过程与特性的研究则是其应用探索的基础。.本项目将着眼于瞬变PLA等离子体在稳定、均匀的ECR等离子体中高速膨胀时由于两者之间的相互作用引起的ECR-PLA等离子体独特现象和基本过程,包括ECR-PLA等离子体的时空运动、PLA等离子体与ECR等离子体间的彼此激发和ECR-PLA等离子体的激发增强、ECR-PLA等离子体中高活性物质间的气相反应及其产物等,主要通过等离子体诊断测量方法对上述现象和过程的实验观察,结合相应的数值模拟,探讨导致ECR-PLA等离子体高活性和气相反应的机制,并为ECR-PLA等离子体的技术应用提供参考。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(5)
专利数量(0)
Reactive expansion of laser-induced boron/carbon plasma in ECR nitrogen plasma during the deposition of BCN films
BCN 薄膜沉积过程中 ECR 氮等离子体中激光诱导硼/碳等离子体的反应膨胀
- DOI:10.1016/j.diamond.2011.10.012
- 发表时间:2012
- 期刊:Diamond Relat. Mater.
- 影响因子:--
- 作者:Gao Kun;Xu Ning;Sun Jian;Wu Jiada;Gan Jie;Li Qian;Feng Hui;Ying Zhifeng
- 通讯作者:Ying Zhifeng
Transparent polycrystalline monoclinic HfO2 dielectrics prepared by plasma assisted pulsed laser deposition
等离子体辅助脉冲激光沉积制备透明多晶单斜HfO2电介质
- DOI:10.1116/1.3673783
- 发表时间:2012
- 期刊:J. Vac. Sci. Technol. A
- 影响因子:--
- 作者:Hu Zhigao;Ying Zhifeng;Yu Wenlei;Sun JIan;Xu Ning;Wu Jiada
- 通讯作者:Wu Jiada
Correlation between structure and photoluminescence of c-axis oriented nanocrystalline ZnO films and evolution of photo-generated excitons
c轴取向纳米晶ZnO薄膜结构与光致发光的相关性以及光生激子的演化
- DOI:10.1016/j.solmat.2011.09.033
- 发表时间:2012
- 期刊:Sol. Energy Mater. Sol. Cells
- 影响因子:--
- 作者:SunJian;Li Qian;Yu wenlei;Wu Jiada;Gao Kun;Xu ning;Hu Zhigao
- 通讯作者:Hu Zhigao
Ab initio calculation of diffusion barriers for Cu adatom hopping on Cu(100) surface and evolution of atomic configurations
Cu(100)表面Cu吸附原子跳跃扩散势垒的从头计算及原子构型演化
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Appl. Surf. Sci.
- 影响因子:--
- 作者:Gao Kun;Zhang Wei;Sun Jian;Xu Ning;Gan Jie;Ying zhifeng;Li Qian;Wu Jiada
- 通讯作者:Wu Jiada
Infrared and Raman spectroscopic studies of optically transparent ZrO2 films deposited by plasma assisted reactive pulsed laser deposition
等离子体辅助反应脉冲激光沉积光学透明 ZrO2 薄膜的红外和拉曼光谱研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Appl. Spectrosc
- 影响因子:--
- 作者:Gan Jie;Ying Zhifeng;Xu Ning;Li Qian;Zhang Wei;Yu Wenlei;Hu Zhigao;Wu Jiada;Sun Jian
- 通讯作者:Sun Jian
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其他文献
Low-temperature synthesis of AIN films through electron cyclotron resonance plasma adided reactive pulsed laser deposition
电子回旋共振等离子体辅助反应脉冲激光沉积低温合成 AIN 薄膜
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Appl. Phys. A,
- 影响因子:--
- 作者:孙剑;吴嘉达;应质峰等
- 通讯作者:应质峰等
激光诱导等离子体在真空和低压非活性气氛中的演变
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:物理与工程
- 影响因子:--
- 作者:应质峰等;吴嘉达;凌浩
- 通讯作者:凌浩
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衬底偏压对ECR-等离子体辅助脉冲激光沉积氮化碳薄膜成分和结构的影响
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- 发表时间:2002-08
- 期刊:Diamond Rel. Mater.
- 影响因子:--
- 作者:凌浩;吴嘉达;孙剑等
- 通讯作者:孙剑等
退火对CNX薄膜光学性质的影响
- DOI:--
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- 期刊:Chinese J. Infrared Millim. Waves,22,213-216(2003)
- 影响因子:--
- 作者:郜小勇;张晋敏;凌浩;王松有;吴嘉达;杨月梅;陈良尧
- 通讯作者:陈良尧
Photoluminescence and its time evolution of AlN thin films
AlN薄膜的光致发光及其时间演化
- DOI:10.1016/s0375-9601(01)00087-1
- 发表时间:2001-03
- 期刊:Phys. Lett. A
- 影响因子:--
- 作者:应质峰等;孙剑;吴嘉达
- 通讯作者:吴嘉达
其他文献
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