AlGaN/GaN异质结构中二维电子气的量子输运性质
批准号:
10774001
项目类别:
面上项目
资助金额:
45.0 万元
负责人:
沈波
依托单位:
学科分类:
凝聚态物质电子结构
结题年份:
2010
批准年份:
2007
项目状态:
已结题
项目参与者:
薛立新、王吉山、唐宁、许福军、韩奎、尹春明、贺小伟
中文摘要
属于高能带阶跃、强极化半导体低维体系的GaN基异质结构不仅在高频、高温、高功率电子器件领域具有重大应用,而且对丰富和发展半导体低维物理具有重要的科学意义。本申请项目以发展GaN基半导体异质结构材料与器件、探索GaN基异质结构中高密度二维电子气(2DEG)运动规律为目标,以强磁场、超低温磁阻测量为主要手段,开展AlGaN/GaN异质结构中2DEG的量子输运研究,主要内容包括:高质量AlGaN/GaN异质结构材料的MOCVD生长和材料微结构表征、AlGaN/GaN异质界面量子阱的精细能带结构和载流子占据、强极化电场下2DEG的输运性质和本征自旋性质等。本项目申请人及所领导的课题组近年来一直从事该领域的研究工作,取得了一批富有特色的研究成果并积累了经验。本项目的研究目标和内容均处于当前国际上半导体低维物理和宽禁带半导体材料、器件研究的前沿领域。
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Rashba and Dresselhaus spin-orbit coupling in GaN-based heterostructures probed by the circular photogalvanic effect under uniaxial strain
通过单轴应变下的圆形光电效应探测 GaN 基异质结构中的 Rashba 和 Dresselhaus 自旋轨道耦合
DOI:
10.1063/1.3511768
发表时间:
2010-11-01
期刊:
APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子:
4
作者:
[Yin, Chunming, Shen, Bo, Yu, Jinling]
通讯作者:
Yu, Jinling
The leakage current mechanisms in the Schottky diode with a thin Al layer insertion between Al0.245Ga0.755N/GaN heterostructure and Ni/Au Schottky contact
Al0.245Ga0.755N/GaN 异质结构和 Ni/Au 肖特基接触之间插入薄 Al 层的肖特基二极管中的漏电流机制
DOI:
10.1088/1674-1056/18/4/054
发表时间:
2009-04
期刊:
Chinese Physics B
影响因子:
1.7
作者:
[Lin Fang, Huang Sen, Yao Jian-Quan, Wang Tao, Xu Fu-Jun, Ma Nan, Shen Bo, Liu Fang, Wang Peng]
通讯作者:
Wang Peng
Lattice polarity detection of InN by circular photogalvanic effect
利用圆形光电效应检测 InN 的晶格极性
DOI:
10.1063/1.3186042
发表时间:
2009-07
期刊:
Applied Physics Letters (IF:3.780)
影响因子:
--
作者:
[Q. Zhang, X.Q. Wang , X. W. He, C. M. Yin,et al.]
通讯作者:
Q. Zhang, X.Q. Wang , X. W. He, C. M. Yin,et al.
Transmission electron microscopy investigation of inversion domain boundary in Al0.65Ga0.35N grown on AlN/sapphire template
AlN/蓝宝石模板上生长的 Al0.65Ga0.35N 反转域边界的透射电子显微镜研究
DOI:
10.1063/1.3231443
发表时间:
2009-09
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[Yu, D. P., Shen, B., Sang, L. W., You, L. P., Zhang, X. P., Yang, Z. J., Wang, X. Q., Fang, H., Zhang, G. Y., Qin, Z. X.]
通讯作者:
Qin, Z. X.
The origin and evolution of V-defects in InxAl1−xN epilayers grown by metalorganic chemical vapor deposition
金属有机化学气相沉积InxAl1-xN外延层中V缺陷的起源和演化
DOI:
10.1063/1.3272017
发表时间:
2009-12
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[Zhenlin Miao, Tongjun Yu, Bo Shen, Guoyi Zhang]
通讯作者:
Guoyi Zhang
共 24 条
AlGaN基250nm及以下远紫外发光材料和器件研究
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批准号:62234001
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项目类别:重点项目
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资助金额:290万元
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批准年份:2022
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负责人:沈波
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依托单位:
深紫外时间和空间分辨压力光谱系统研制
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批准号:--
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项目类别:国家重大科研仪器研制项目
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资助金额:792万元
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批准年份:2019
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负责人:沈波
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依托单位:
Si衬底上氮化物半导体异质结构材料和功率电子器件相关物理问题研究
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批准号:11634002
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项目类别:重点项目
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资助金额:310.0万元
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批准年份:2016
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负责人:沈波
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依托单位:
III族氮化物半导体异质结构中的自旋轨道耦合效应及其调控
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批准号:11174008
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项目类别:面上项目
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资助金额:75.0万元
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批准年份:2011
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负责人:沈波
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依托单位:
高Al组份AlxGa1-xN 宽禁带半导体薄膜的MOCVD外延生长和掺杂研究
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批准号:60444007
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项目类别:专项基金项目
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资助金额:6.0万元
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批准年份:2004
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负责人:沈波
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依托单位:
国内基金
海外基金