生长温度周期调制的MOCVD法制备p型ZnO薄膜研究
批准号:
60776015
项目类别:
面上项目
资助金额:
32.0 万元
负责人:
杨少延
依托单位:
学科分类:
半导体材料
结题年份:
2010
批准年份:
2007
项目状态:
已结题
项目参与者:
焦春美、朱勤生、魏鸿源、董向芸、张攀峰、范海波、杨安丽、郑高林、宋华平
中文摘要
ZnO的p型薄膜制备一直是难点,是目前制备ZnO pn结器件的主要障碍。研究表明:过低的生长温度有利于p型掺杂剂(如氮原子)的并入而获得较高的空穴浓度,但材料的结晶度却降低;如提高生长温度,虽有利于提高材料结晶度,但p型掺杂剂却不易并入。为解决这一问题,本项目通过对p型ZnO的MOCVD生长和掺杂机制的深入研究,创造性的将衬底基座改为具有吹气式快速升降温功能的双温区设计,实现了低温掺杂生长和高温快速退火在MOCVD中的巧妙结合。先利用低温生长将氮掺杂剂并入晶体,然后在高温下快速退火提高晶体质量,如此周期交替的生长温度调制生长,使稳定可控p型材料实现与二维平整单晶生长兼顾。在获得高性能的p型ZnO薄膜基础上,实现ZnO同质结LED电注入室温紫外发光(激子发光波长不大于400nm),为进一步实现ZnO异质结发光器件(如激光器)奠定基础。
英文摘要
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
登录
查看更多内容
DOI:
10.1088/0022-3727/41/20/205416
发表时间:
2008-10
期刊:
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子:
--
作者:
[A. Yang;H. Wei;X. Liu;H. Song;H. Fan;P. F. Zhang;G. Zheng;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang]
通讯作者:
A. Yang;H. Wei;X. Liu;H. Song;H. Fan;P. F. Zhang;G. Zheng;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang
Temperature dependence of structural and optical properties of ZnO films grown using methanol as oxidant by MOCVD
使用甲醇作为氧化剂通过 MOCVD 生长 ZnO 薄膜的结构和光学特性的温度依赖性
DOI:
--
发表时间:
--
期刊:
人工晶体学报
影响因子:
--
作者:
[WANG Zhan-Guo(王占国), YANG Shao-Yan(杨少延), WANG Zhen-Hua(王振华), YANG An-Li(杨安丽), LIU Xian, WEI Hong-Yuan(魏鸿源), JIAO Chun-Mei(焦春美), ZHU Qin-She]
通讯作者:
ZHU Qin-She
DOI:
10.1063/1.2926679
发表时间:
2008-05
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[H. Fan;G. Sun;S. Yang;P. F. Zhang;Riqing Zhang;H. Wei;C. Jiao;Xuchun Liu;Yu Chen;Q. Zhu]
通讯作者:
H. Fan;G. Sun;S. Yang;P. F. Zhang;Riqing Zhang;H. Wei;C. Jiao;Xuchun Liu;Yu Chen;Q. Zhu
DOI:
10.1063/1.3123814
发表时间:
2009-04
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[A. Yang;H. Song;H. Wei;Xue-Yuan Liu;J. X. Wang;X. Lv;P. Jin;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang-]
通讯作者:
A. Yang;H. Song;H. Wei;Xue-Yuan Liu;J. X. Wang;X. Lv;P. Jin;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang-
DOI:
10.1016/j.apsusc.2009.10.109
发表时间:
2010-02
期刊:
Applied Surface Science
影响因子:
6.7
作者:
[G. Zheng;A. Yang;Hongyuan Wei;X. Liu;Huaping Song;Yan Guo;C. Jia;C. Jiao;Shao-yan Yang;Qinsheng Zhu;Zhanguo Wang]
通讯作者:
G. Zheng;A. Yang;Hongyuan Wei;X. Liu;Huaping Song;Yan Guo;C. Jia;C. Jiao;Shao-yan Yang;Qinsheng Zhu;Zhanguo Wang
共 18 条
垂直结构氮化镓电力电子器件研制中的关键材料制备工艺研究
-
批准号:61774147
-
项目类别:面上项目
-
资助金额:70.0万元
-
批准年份:2017
-
负责人:杨少延
-
依托单位:
利用玻璃衬底制备新型InGaN基量子点全光谱太阳电池材料研究
-
批准号:91233111
-
项目类别:重大研究计划
-
资助金额:80.0万元
-
批准年份:2012
-
负责人:杨少延
-
依托单位:
硅基氮化镓厚膜制备中的大失配应力调控方法与机制研究
-
批准号:60976008
-
项目类别:面上项目
-
资助金额:46.0万元
-
批准年份:2009
-
负责人:杨少延
-
依托单位:
GaN与ZnO异质外延中的Si基协变超薄中间层研究
-
批准号:60506002
-
项目类别:青年科学基金项目
-
资助金额:23.0万元
-
批准年份:2005
-
负责人:杨少延
-
依托单位:
国内基金
海外基金