课题基金 / 基金详情

生长温度周期调制的MOCVD法制备p型ZnO薄膜研究

批准号:
60776015
项目类别:
面上项目
资助金额:
32.0 万元
负责人:
杨少延
学科分类:
半导体材料
结题年份:
2010
批准年份:
2007
项目状态:
已结题
项目参与者:
焦春美、朱勤生、魏鸿源、董向芸、张攀峰、范海波、杨安丽、郑高林、宋华平

项目摘要

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项目成果

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中文摘要
ZnO的p型薄膜制备一直是难点,是目前制备ZnO pn结器件的主要障碍。研究表明:过低的生长温度有利于p型掺杂剂(如氮原子)的并入而获得较高的空穴浓度,但材料的结晶度却降低;如提高生长温度,虽有利于提高材料结晶度,但p型掺杂剂却不易并入。为解决这一问题,本项目通过对p型ZnO的MOCVD生长和掺杂机制的深入研究,创造性的将衬底基座改为具有吹气式快速升降温功能的双温区设计,实现了低温掺杂生长和高温快速退火在MOCVD中的巧妙结合。先利用低温生长将氮掺杂剂并入晶体,然后在高温下快速退火提高晶体质量,如此周期交替的生长温度调制生长,使稳定可控p型材料实现与二维平整单晶生长兼顾。在获得高性能的p型ZnO薄膜基础上,实现ZnO同质结LED电注入室温紫外发光(激子发光波长不大于400nm),为进一步实现ZnO异质结发光器件(如激光器)奠定基础。
英文摘要
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
DOI: 10.1088/0022-3727/41/20/205416
发表时间: 2008-10
期刊: Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子: --
作者: [A. Yang;H. Wei;X. Liu;H. Song;H. Fan;P. F. Zhang;G. Zheng;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang]
通讯作者: A. Yang;H. Wei;X. Liu;H. Song;H. Fan;P. F. Zhang;G. Zheng;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang
Temperature dependence of structural and optical properties of ZnO films grown using methanol as oxidant by MOCVD
使用甲醇作为氧化剂通过 MOCVD 生长 ZnO 薄膜的结构和光学特性的温度依赖性
DOI: --
发表时间: --
期刊: 人工晶体学报
影响因子: --
作者: [WANG Zhan-Guo(王占国), YANG Shao-Yan(杨少延), WANG Zhen-Hua(王振华), YANG An-Li(杨安丽), LIU Xian, WEI Hong-Yuan(魏鸿源), JIAO Chun-Mei(焦春美), ZHU Qin-She]
通讯作者: ZHU Qin-She
DOI: 10.1063/1.2926679
发表时间: 2008-05
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [H. Fan;G. Sun;S. Yang;P. F. Zhang;Riqing Zhang;H. Wei;C. Jiao;Xuchun Liu;Yu Chen;Q. Zhu]
通讯作者: H. Fan;G. Sun;S. Yang;P. F. Zhang;Riqing Zhang;H. Wei;C. Jiao;Xuchun Liu;Yu Chen;Q. Zhu
DOI: 10.1063/1.3123814
发表时间: 2009-04
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [A. Yang;H. Song;H. Wei;Xue-Yuan Liu;J. X. Wang;X. Lv;P. Jin;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang-]
通讯作者: A. Yang;H. Song;H. Wei;Xue-Yuan Liu;J. X. Wang;X. Lv;P. Jin;S. Yang;Q. Zhu;Z. Wang-
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    垂直结构氮化镓电力电子器件研制中的关键材料制备工艺研究
    • 批准号:
      61774147
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      70.0万元
    • 批准年份:
      2017
    • 负责人:
      杨少延
    • 依托单位:
    利用玻璃衬底制备新型InGaN基量子点全光谱太阳电池材料研究
    • 批准号:
      91233111
    • 项目类别:
      重大研究计划
    • 资助金额:
      80.0万元
    • 批准年份:
      2012
    • 负责人:
      杨少延
    • 依托单位:
    硅基氮化镓厚膜制备中的大失配应力调控方法与机制研究
    • 批准号:
      60976008
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      46.0万元
    • 批准年份:
      2009
    • 负责人:
      杨少延
    • 依托单位:
    GaN与ZnO异质外延中的Si基协变超薄中间层研究
    • 批准号:
      60506002
    • 项目类别:
      青年科学基金项目
    • 资助金额:
      23.0万元
    • 批准年份:
      2005
    • 负责人:
      杨少延
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金