激光剥离GaN表面纳米级平整度的控制
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:91023048
- 项目类别:重大研究计划
- 资助金额:50.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0403.半导体光电子器件与集成
- 结题年份:2013
- 批准年份:2010
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2011-01-01 至2013-12-31
- 项目参与者:孙建武; 张艳; 谷丹丹; 张江勇; 林硕; 胡晓龙; 刘文杰; 陈明;
- 关键词:
项目摘要
利用激光辐照实现蓝宝石与GaN外延片界面处纳米级GaN的分解,以此来实现蓝宝石与GaN外延片的分离,获得具有纳米级粗糙度GaN表面以及可以重复利用的蓝宝石衬底。通过研究激光功率密度、光斑形状、扫描轨迹、键合状态以及GaN外延片结构等参数对剥离样品的影响,并结合理论模拟结果,寻找获得晶体完整、表面平整、均匀性好的激光剥离工艺条件,实现激光剥离GaN表面纳米级平整度的控制。结合晶片键合技术,将LED转移至高电导率、热导率的衬底上,可以实现GaN基转移衬底LED的制作,从而解决GaN基大功率LED效率、散热及成本的瓶颈,为加快半导体照明产业化进程做出贡献。另外,利用激光剥离技术,还可以研制GaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)及共振腔发光二极管(RCLED)等新型、高性能器件,为GaN基发光器件开辟新的应用领域。
结项摘要
本项目针对研制III族氮化物光电子器件的关键工艺--激光剥离技术进行研究。该技术是利用激光辐照使蓝宝石与GaN外延片界面处的GaN分解,进而实现蓝宝石与GaN外延薄膜的分离。通过研究激光剥离工艺参数对剥离后GaN表面的影响,实现激光剥离GaN表面纳米级粗糙度的控制。该技术可用于研制GaN基发光二极管(LED)、共振腔发光管(RCLED)以及面发射激光器(VCSEL)等新型III族氮化物半导体光电子器件。这些器件在照明、通信、存储、显示等领域具有广阔的应用前景。通过本项目的研究,主要取得了以下几个方面的进展:. (1)利用有限元分析法研究了激光剥离过程中GaN和蓝宝石中的热传输机理, 得出了激光剥离过程中GaN材料内瞬态温度场分布函数,为激光剥离工艺参数的选取提供了重要理论依据。. (2)研究了激光剥离工艺参数对激光剥离后GaN表面的影响,分析了激光剥离GaN表面不平整及出现损伤的原因,实现了GaN外延片与蓝宝石衬底的完整剥离,剥离后GaN表面平整、无裂缝,表面平整度小于10nm。. (3)研究了湿法腐蚀、化学机械抛光、ICP刻蚀技术对激光剥离GaN表面的影响,实现了激光剥离GaN表面纳米级平整度的控制。. (4)获得了亚纳米平整度的激光剥离GaN表面,在此基础上制作了高品质的氮化物微谐振腔,实现了GaN 基VCSEL低阈值光泵激射。. (5)研制出了多种具有优良散热特性的GaN基LED器件,为将来开发新型的实用化LED器件提供了新的方案。. (6)研制出了具有高Q值的电注入氮化物共振腔器件,为研制GaN基VCSEL和RCLED等新型微结构光电子器件提供了新的途径。.
项目成果
期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(2)
专利数量(0)
Low-temperature bonding technique for fabrication of high-power GaN-based blue vertical light-emitting diodes
高功率氮化镓基蓝色垂直发光二极管的低温键合技术
- DOI:10.1016/j.optmat.2012.02.018
- 发表时间:2012-06
- 期刊:Optical Materials
- 影响因子:3.9
- 作者:B. P. Zhang;X. L. Hu;J. Y. Zhang;G. E. Weng;X. Q. Lv;H. J. Huang;M. Chen;X. M. Cai;L. Y. Ying
- 通讯作者:L. Y. Ying
Investigation of InGaN p-i-n Homojunction and Heterojunction Solar Cells
InGaN p-i-n 同质结和异质结太阳能电池的研究
- DOI:10.1109/lpt.2012.2227702
- 发表时间:2013
- 期刊:IEEE Photonics Technology Letters
- 影响因子:2.6
- 作者:X .M. Cai;Y. Wang;B. H. Chen;M. M. Liang;W. J. Liu;J. Y. Zhang;X. Q. Lv;L. Y. Ying;B. P. Zhang
- 通讯作者:B. P. Zhang
Fabrication of Vertical-Structured GaN-Based Light-Emitting Diodes Using Auto-Split Laser Lift-Off Technique
采用自动分裂激光剥离技术制造垂直结构 GaN 基发光二极管
- DOI:10.1149/2.011202ssl
- 发表时间:2012
- 期刊:Ecs Solid State Letters
- 影响因子:--
- 作者:B. P. Zhang;L. J. Liu;L. E. Cai;J. Y. Zhang;L. Sun;M. M. Liang;X. L. Hu;X. M. Cai;F. Jiang
- 通讯作者:F. Jiang
Performance enhancement of GaN-based light emitting diodes by transfer from sapphire to silicon substrate using double-transfer technique.
使用双转移技术从蓝宝石转移到硅衬底提高 GaN 基发光二极管的性能
- DOI:10.1186/1556-276x-7-244
- 发表时间:2012-05-06
- 期刊:Nanoscale research letters
- 影响因子:--
- 作者:Zhang JY;Liu WJ;Chen M;Hu XL;Lv XQ;Ying LY;Zhang BP
- 通讯作者:Zhang BP
Fabrication and Characterization of High-Quality Factor GaN-Based Resonant-Cavity Blue Light-Emitting Diodes
高品质因数 GaN 基谐振腔蓝色发光二极管的制造和表征
- DOI:10.1109/lpt.2012.2206110
- 发表时间:2012-09-01
- 期刊:IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS
- 影响因子:2.6
- 作者:Hu, Xiao-Long;Liu, Wen-Jie;Zhang, Bao-Ping
- 通讯作者:Zhang, Bao-Ping
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- DOI:--
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- 影响因子:--
- 作者:徐宏;邹琳;张保平;彭婧;张莉;况海斌
- 通讯作者:况海斌
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