High-aspect-ratio ZnSe microstructure generated by spatially shaped femtosecond laser writing assisted with wet chemical etching
High-aspect-ratio ZnSe microstructure generated by spatially shaped femtosecond laser writing assisted with wet chemical etching
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湿法化学蚀刻辅助空间成形飞秒激光写入生成高深宽比 ZnSe 微结构
DOI：
10.1016/j.optlastec.2021.107687
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Shouhuan Zhou
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Sikun Zhou;Li Shen;Fangjie Wang;Yue Li;Hong Zhang;Shutong Wang;Shouhuan Zhou
硒化锌（ZnSe）多晶材料的高深宽比微结构对于光波导和光子晶体的应用具有重要意义。在这项工作中，我们展示了一个成功的方法来制造微结构与贝塞尔光束的铭文和蚀刻使用过氧化氢（H2O2）和氢氧化氨（NH4OH）的混合溶液。采用飞秒激光背面刻蚀和选择性刻蚀的方法制备的微结构纵向长度为140 μm，宽度为12 μm。显微组织的纵横比为11.2。为了展示这种技术的潜力，制备了纵向长度和宽度为60 μm的脊形波导，该脊形波导在1.55 μm处具有良好的限制模式。这一过程使得在多晶ZnSe内部产生三维微结构成为可能，从而为将光子晶体结构扩展到中远红外领域提供了一条途径。
A high-aspect-ratio microstructure in polycrystalline Zinc selenide (ZnSe) is important for waveguides and photonic crystals application. In this work, we demonstrated a successful approach for fabricating microstructure with Bessel beam inscription and etching using a mixed solution of hydrogen peroxide (H2O2) and ammonia hydroxide (NH4OH). The microstructure inscribed using the femtosecond laser back-side fabrication and selective etching, has a longitudinal length of 140 μm and a width of 12 μm. The aspect ratio of microstructures is ∼ 11.2. To showcase the potential of this technique, a rib waveguide with a longitudinal length and width of 60 μm was prepared and the rib waveguides supported a well confined mode at 1.55 μm. This process makes it possible to produce three-dimensional microstructures inside polycrystalline ZnSe, and thus offers a pathway for expanding the photonic crystal structure to the mid-to-far infrared field.
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影响因子：
3.8
作者：
Cong Zhang;Zhisheng Jiang;S. Fu;M. Tang;W. Tong;Deming Liu
通讯作者：
Cong Zhang;Zhisheng Jiang;S. Fu;M. Tang;W. Tong;Deming Liu
影响因子：
3.6
作者：
Ying Wang;D. N. Wang;Minwei Yang;W. Hong;P. Lu
通讯作者：
Ying Wang;D. N. Wang;Minwei Yang;W. Hong;P. Lu
DOI：
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发表时间：
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期刊：
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影响因子：
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作者：
A. Orth;K. Crozier;J. R. Pepperkok;Ellenberg;E Schonbrun;A. R. Abate;P. Steinvurzel;D. A. Weitz-D.
通讯作者：
A. Orth;K. Crozier;J. R. Pepperkok;Ellenberg;E Schonbrun;A. R. Abate;P. Steinvurzel;D. A. Weitz-D.
飞秒激光直写蓝宝石抗反射微结构的制备
影响因子：
3.6
作者：
Li, Qian-Kun;Cao, Jia-Ji;Sun, Hong-Bo
通讯作者：
Sun, Hong-Bo
影响因子：
1.1
作者：
Cao, Jia-Ji;Li, Qian-Kun;Yu, Yong-Sen
通讯作者：
Yu, Yong-Sen