Hole mobility of p-type beta-FeSi_2 thin film grown from Si/Fe multilayers
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Si/Fe多层膜生长的p型β-FeSi_2薄膜的空穴迁移率
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Takakura et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tange;Amano;Nishizaki;Yoshizaki;K.Takakura et al.
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