Effect of carbon on boron diffusion and clustering in silicon: Temperature dependence study
Effect of carbon on boron diffusion and clustering in silicon: Temperature dependence study
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碳对硅中硼扩散和团聚的影响：温度依赖性研究
DOI：
10.1063/1.5048313
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发表时间：
2018
影响因子：
3.2
通讯作者：
Nagai Y.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Tu Y.;Shimizu Y.;Kunimune Y.;Shimada Y.;Katayama T.;Ide T.;Inoue M.;Yano F.;Inoue K.;Nagai Y.
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硅中陷阱限制的间隙扩散和增强的硼团簇
影响因子：
4
作者：
P. Stolk;H. Gossmann;D. Eaglesham;D. Jacobson;J. Poate;H. Luftman
通讯作者：
H. Luftman
使用原子探针断层扫描技术研究硼掺杂硅
DOI：
10.1088/1757-899x/7/1/012004
发表时间：
2010
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
D. Blavette;E. Cadel;O. Cojocaru;B. Deconihout
通讯作者：
B. Deconihout
离子注入硅中 3D 原子级掺杂剂缺陷聚类过程的直接成像。
DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
Nano letters (Print)
影响因子：
--
作者：
S. Koelling;O. Richard;H. Bender;M. Uematsu;A. Schulze;G. Zschaetzsch;M. Gilbert;W. Vandervorst
通讯作者：
W. Vandervorst
硅纳米结构中掺杂剂的三维原子图
影响因子：
4
作者：
K. Thompsona;J. Booske;D. Larson;T. Kelly
通讯作者：
T. Kelly
影响因子：
4
作者：
L. Pelaz;G. Gilmer;H. Gossmann;C. Rafferty;M. Jaraíz;J. Barbolla
通讯作者：
L. Pelaz;G. Gilmer;H. Gossmann;C. Rafferty;M. Jaraíz;J. Barbolla