Nanoimprint Anlage mit SCIL Tooling

Die Nanostrukturierung der Oberflächen von Bauelementen ermöglicht eine enorme Erweiterung der Funktionalität vieler Bauelemente。附注：介绍了scil技术（衬底共形压印光刻技术），die eine genaue Abformung von Strukturen in nm-Bereich auf Flächen von bis zu 400cm2 in nur einem Schritt erlaut。德国大众市场研究中心zugänglich德国大众市场研究中心。as INA entwickelt derzeit einzigartige Templates fr die 3D纳米压印技术，welche Strukturen mit Details in nm-Bereich in allen drei Raumrichtungen ermöglicht, wurdurch insbesonere im Bereich der Nanophotonik eine Vielzahl von neuen Anwendungen realisierbar wind。论文题目：论文范文：论文范文：论文范文：论文范文：论文范文：论文范文：链接本文：链接本文：链接本文：链接本文：链接本文：链接本文：链接全文：链接本文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文：链接全文

Die Nanostrukturierung der Oberflächen von Bauelementen ermöglicht eine enorme Erweiterung der Funktionalität vieler Bauelemente. Besonders vielversprechend ist die SCIL-Technologie (Substrate Conformal Imprint Lithography), die eine genaue Abformung von Strukturen im nm-Bereich auf Flächen von bis zu 400cm2 in nur einem Schritt erlaubt. Hierdurch sollen neue Bauelemente dem deutschen Massenmarkt zugänglich gemacht werden. Das INA entwickelt derzeit einzigartige Templates für die 3D Nanoimprint Technologie, welche Strukturen mit Details im nm-Bereich in allen drei Raumrichtungen ermöglicht, wodurch insbesondere im Bereich der Nanophotonik eine Vielzahl von neuen Anwendungen realisierbar wird. Diese Templates müssen an die besonderen Anforderungen der SCIL-Technologie angepasst werden. Daher ist es zwingend erforderlich, dass die Abformung am Institut geschehen kann, um - ohne Zeitverlust durch Transport – die relevanten Parameter erforschen zu können, wie z.B. Materialauswahl, Templatedesign, u.a. Die SCIL-Technologie ist hierbei von besonderer Bedeutung, da die Vorteile von weichen Templates (z.B. Oberflächenanpassung) und harten Templates (z.B. laterale Strukturtreue) genutzt werden.