Modellierung des Gasmanagements in Mikrowellen-Plasmabrennergeometrien für die gezielte Einbringung von Partikeln und deren Verdampfung für chemische Hochrateprozesse

在等离子体发射工艺中的能量效率和资源利用率高的工艺是气体管理的经验优化。这是对等离子体发射过程的大规模研究的建模和仿真。该研究需要在非几何条件下对气体和气体的流动进行模拟，并对等离子体的扩散、扩散和在等离子体中的扩散进行详细的模拟，以确定等离子体中的化学扩散和等离子体-粒子-微波韦尔登。Die Resultate der Plasma simulation，wie die räumliche Verteilung von Elektronenplete und Elektronen- und Gastemperatur，韦尔登和光学发射光谱验证。Mit Hilfe von Hochgeschwindigkeits-Kameraaufnahmen von Partikelleuchtspuren韦尔登deren Trajektorien beobachtet and dienen somit zur Überprüfung der Strömungssimulationsergebnisse.这些劳动者需要为一个反应器几何学和一个有效的气体和部分几何学的基础，一个优化的方法。

Für energieeffiziente und ressourcenschonende Hochrateprozesse in der plasmachemischen Beschichtungstechnik ist eine empirische Optimierung des Gasmanagements nicht ausreichend. Daher besteht auf dem Gebiet der Modellierung und Simulation von plasmachemischen Prozessen großer Forschungsbedarf. Das Forschungsvorhaben beschäftigt sich mit der Simulation von heißen und kalten Gasströmungen in unterschiedlichen Geometrien, der detaillierten Modellierung des Plasmas sowie dem Aufschmelzen, Verdampfen und der Überführung in die Plasmaphase von eingebrachten Partikeln, wodurch Erkenntnisse über chemische Vorgänge in reaktiven Plasmen und ein eingehendes Verständnis der Plasma-Partikel- Wechselwirkung erlangt werden. Die Resultate der Plasmasimulation, wie die räumliche Verteilung von Elektronendichte und Elektronen- und Gastemperatur, werden mit optischer Emissionsspektroskopie validiert. Mit Hilfe von Hochgeschwindigkeits-Kameraaufnahmen von Partikelleuchtspuren werden deren Trajektorien beobachtet und dienen somit zur Überprüfung der Strömungssimulationsergebnisse. Diese Arbeiten bieten die Grundlage für eine erfolgreiche Entwicklung verbesserter Reaktorgeometrien und einer effizienten Gas- und Partikelzuführung, die eine Optimierung von Hochrateprozessen zur Folge hat.