Hochvakuumbeschichtungsanlage für Elektronenstrahl-basiertes Verdampfen sowie Kathodenzerstäubung

在等离子体和纳米材料中，我们将在布利克朋特找到一种新的材料。我们的计划是，我们不会在你的生活中发现你的存在。这是一个很大的问题，因为这是一个很大的问题，因为这是一个很大的问题。Sputtern)定制。Zerstäubungsprozesse erlaben sehr Harte and Quitatiativ hochwertige Filme，die MIT den biisherigen anlagen nigen en en können，Elektronenstrahlverdampfen ermöglicht das Beschichten MIT hochschmelzenden Materialen。您的位置：我也知道>地区>德国和德国。这是一种新型的纳米微孔光刻机，它是一种新型的纳米光刻机。

In der Plasmonik und Nanooptik rücken hoch- und höchstschmelzende Materialen sowie ¿unedle¿ Materialen, die feuchtigkeits- und luftempfindlich sind, aufgrund ihrer bisher nicht ausgeschöpften ungewöhnlichen Eigenschaften in den Blickpunkt. Wir planen, unsere bisherigen wissenschaftlichen Arbeiten in diese Richtung zu erweitern. Da beide Materialklassen hohe Anforderungen an die Beschichtungstechniken stellen, möchten wir dafür eine kombinierte Anlage zum Elektronenstrahlverdampfen und zur Kathodenzerstäubung (engl. Sputtern) beschaffen. Zerstäubungsprozesse erlauben sehr harte und qualitativ hochwertige Filme, die mit den bisherigen Anlagen nicht ermöglicht werden können, Elektronenstrahlverdampfen ermöglicht das Beschichten mit hochschmelzenden Materialen. Darüber hinaus erlaubt eine solche Kombinationsanlage die Herstellung komplexer Dünnfilmschichtsysteme ohne Brechung des Vakuums und damit Kontamination der Filmkomponenten. Zusätzlich muss die Anlage erlauben, das Substrat während der Beschichtung in mehreren Achsen gleichzeitig und kontinuierlich zu verfahren um kolloidale Nanoapertur-Lithographie für die Herstellung komplexer Nanostrukturen ermöglichen.