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Development of crystal defect revelation technique for next-generation power semiconductor material Ga2O3

Development of crystal defect revelation technique for next-generation power semiconductor material Ga2O3
开发下一代功率半导体材料Ga2O3晶体缺陷揭示技术
批准号:
16K17516
负责人:
YAO YONGZHAO
金额:
$2.75万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2018-03-31

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使用同步加速器 X 射线形貌、X 射线衍射和拉曼表征 EFG 生长的 β-Ga2O3 单晶
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [T. N. K. Phan, K. Kato, K. Takano, M. Yoshimura, H. Azechi, M. Nakajima, 姚永昭]
通讯作者: 姚永昭
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DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
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DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
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