Räumliche Charakterisierung der Quell- und Fokaleigenschaften kohärenter fs-EUV Strahlung in Hinblick auf die Optimierung der Quelle auf maximale Brillanz

Die Nutzung von höherer Harmonischen Strahlung aus-采用超高强度的激光器，研究了极紫外激光器的辐射特性，并将其用于最大限度地提高辐射强度的方法，提出了一种极紫外多层膜用于13 nm波长的微辐射干涉的方法本文介绍了紫外辐射的光谱选择和聚焦，这些特征可以用韦尔登来解决，在多层光学器件中，辐射的光谱选择是一种谐波光谱，它在探测器中具有很好的吸收特性。这是一种带有透射式光电阴极的光电发射仪器，用于对极紫外辐射进行快速检测。这两种方法都需要对光的亮度进行优化。

Die Nutzung von höherer Harmonischen Strahlung aus fs-lasergetriebenen Quellen mit dem Ziel der Erzeugung ultrahoher Spitzenintensitäten setzt sowohl die Charakterisierung der räumlichen Abstrahlcharakteristik der Quelle im EUV als auch die Fokussierung der Quelle zur Erzielung einer maximalen Leistungsdichte voraus.Für die Erreichung dieser Projektziele bieten EUV Multilayer als Interferenzspiegel für weiche Röntgenstrahlung im Wellenlängenbereich um 13 nm hervorragende Voraussetzungen zur spektralen Selektion und Fokussierung der EUV-Strahlung.Diese Eigenschaften sollen genutzt werden, um in multilayerbasierten optischen Aufbauten die Strahlung einer einzelnen Harmonischen spektral zu selektieren und ihre Ausbreitungscharakteristik im Fernfeld zu detektieren. Hierbei kommt ein Photoemissionsmikroskop mit transmittierender Photokathode als neuartiges Instrument zur räumlich Detektion von EUV Strahlung zum Einsatz. Die dabei erzielten Ergebnisse sollen der Optimierung der Brillanz der Lichtquelle zugute kommen.