Influence of morphology on electronic transport and excitations of ultra thin metal layers

Der Zusammenang zwitchen Morphologie，Electrktronischem Transport and elektronischer Strukur zweiDimsionaler topaktischer Metallstrukturen soll MIT einer Kombination Aus elektrischen Leitfäghkeitsmessungen and hochpräziser Energie-und Pullsaufelöster Elektronenbeugung Studeden.Das ELS-LEED kann Quantity Strukturelle Information Wie Korngröçen and Stufen-und Punktfektdichten Liefern Sowie Elektronische Grizflächenzustände nachweisen and等离子弥散VerMessen。ALS MODEL SYSTEM Sollen zunächst topaktische Alkalimetallschichten auf Silizium-Unterlagen dienen und der Isolator-Metall-úbergang bee zunehmender Schichtdicke Gleichzeitigüber Leitfähigkeit and Elektronische Anregungen verfolgt.Für Gitter原子化器Alkalimetallketten auf Si(100)-Unterlgen Wind Oberflächenleitfähigkeit and等离子弥散定量估计mbar。他们是费尔纳，geschlossene Silber-and molmobdänschichten auf Sphir-Unterlagen herzustellen，den Eifuüder der Körnigkeit solcher Metallschichten auf das PlatmonenSpektrtrum zu ergründen Sowie den erwarteen signifikanten Eifuüder Ober-und Grizflächenphologie auf elektrischen Transport and Elektronische Anregungen zu antifizieren.

Der Zusammenhang zwischen Morphologie, elektronischem Transport und elektronischer Struktur zweidimensionaler epitaktischer Metallstrukturen soll mit einer Kombination aus elektrischen Leitfähigkeitsmessungen und hochpräziser energie- und impulsaufgelöster Elektronenbeugung studiert werden. Das ELS-LEED kann quantitative strukturelle Information wie Korngrößen und Stufen- und Punktdefektdichten liefern sowie elektronische Grenzflächenzustände nachweisen und Plasmomendispersion vermessen. Als Modellsystem sollen zunächst epitaktische Alkalimetallschichten auf Silizium-Unterlagen dienen und der Isolator-Metall-Übergang bei zunehmender Schichtdicke gleichzeitig über Leitfähigkeit und elektronische Anregungen verfolgt werden. Für Gitter atomarer Alkalimetallketten auf Si(100)-Unterlagen wird die Anisotropie von Oberflächenleitfähigkeit und -plasmonendispersion quantitativ bestimmbar. Ziel ist ferner, geschlossene Silber- und Molybdänschichten auf Saphir-Unterlagen herzustellen, den Einfluß der Körnigkeit solcher Metallschichten auf das Plasmonenspektrum zu ergründen sowie den erwarteten signifikanten Einfluß der Ober- und Grenzflächenmorphologie auf elektrischen Transport und elektronische Anregungen zu quantifizieren.