Erzeugung funktionaler Polymerschichten mittels oberflächeninitiierter Polymerisation an strukturierten selbstorganisierten monomolekularen Schichten

Ziel des Projektes ist die Herstellung von oberflächengebundenen聚合物mittel oberflächeninitiierter control - liter聚合与引发系统die durch lithography erzeugt werden。Neben der Entwicklung neutrigger Polymerisationssysteme, r die oberflächeninitiierte Polymerisation (SIP) and der TU mnchen, die chemische lithography in Heidelberg in Bezug auf neue Initiatorsysteme, Strukturierungsgröße and Substratklassen weiterentwickelt。ausgangspunchind模具在Kapitel 2.2 angefelhten system fr模具控制下进行放射聚合。Augenmerk（德国）有限公司（Augenmerk）拥有自动控制聚合物聚合技术（ATRP， RAFT, lebend ionisch）。Durch die combination der SIP and der chemischen lithography w<s:1> rde erstmalig eine Untersuchung der physikalischen Eigenschaften unterschidlicher Polymerschichten sowie ihrer Grenzflächeneigenschaften, als Funktion der Strukturgröße inometerbereich (kleiner als 10 nm) möglich sein。纳米技术与纳米材料，纳米材料与纳米材料，纳米材料与纳米材料，纳米材料与纳米材料，纳米材料与纳米材料。

Ziel des Projektes ist die Herstellung von oberflächengebundenen Polymeren mittels oberflächeninitiierter kontrollierter Polymerisation an Initiatorsystemen die durch chemische Lithographie erzeugt werden. Neben der Entwicklung neuartiger Polymerisationssysteme für die oberflächeninitiierte Polymerisation (SIP) an der TU München, wird die chemische Lithographie in Heidelberg in Bezug auf neue Initiatorsysteme, Strukturierungsgröße und Substratklassen weiterentwickelt. Ausgangspunkt sind die unter Kapitel 2.2 angeführten Systeme für die kontrollierte radikalische Polymerisation. Besonderer Augenmerk wird auf kontrollierte Polymerisationsverfahren (ATRP, RAFT, lebend ionisch) gelegt. Durch die Kombination der SIP und der chemischen Lithographie würde erstmalig eine Untersuchung der physikalischen Eigenschaften unterschiedlicher Polymerschichten sowie ihrer Grenzflächeneigenschaften, als Funktion der Strukturgröße im Nanometerbereich (kleiner als 10 nm) möglich sein. Diese Untersuchungen sind Grundlage für die Entwicklung funktioneller nanotechnologischer Materialien, mit kontrollierbaren Strukturmotiven in molekularen Dimensionen.