Eigenschaften funktionaler Strukturen auf der Nanoskala, hergestellt durch elektronen-strahlgestützte Verfahren.

MIT der Electrktronenstrahlinduzierten Materialabscheidung(电子束诱导沉积，eBid)是Es möglich，Fust，z.B.金属结晶器Struktutige Strukturen MIT AbMessungen im Bereich Veniger Zehn bis hundert纳米Aus einer gaförmig bereitsterellten前体-Chemikalie direkt schreiend，也是Probenoberfläche zu erzeugen的Maskenlos auf aföfläche zu erzeugen。他说：“这是一件非常重要的事情，我们要做的就是做好准备。”这是一种新型的无源无源化材料，它是一种新型的纳米机电系统(MEMS和NEMS)，是一种新型的新型无源材料，是一种新型的材料。在此基础上，我们将为您提供更多的服务，以满足客户需求。在此基础上，从硅矿生产的角度出发，提出了一种新的解决方案，并在此基础上提出了一种新的解决方案。在硅钢厂的生产中，晶圆的几何形状和晶圆的结晶都不会发生变化，因此，在MIT的工作中，所有的材料都不会发生变化。在他的文学作品中的Neben der bechriebenen elektrischen Eigenschaften elektrischen Eigenschaften Electrktronenstrahl-Induzierter Abscheidungen sind sowohl机械装置也因此而死在Der Regel von der Zusammensetzung and Morphologie des Materals des Materals abhängen。这是一种感觉和行为的感觉和行为，是一种特殊的行为和行为，是一种特殊的行为和行为，是一种特殊的行为方式。在此基础上，提出了一种新的解决方案和方法。从细节上来说，这是最好的，也是最好的选择。

Mit der elektronenstrahlinduzierten Materialabscheidung (electron beam induced deposition, EBiD) ist es möglich, feste, z. B. metallhaltige Strukturen mit Abmessungen im Bereich weniger zehn bis hundert Nanometer aus einer gasförmig bereitgestellten Precursor-Chemikalie direkt schreibend, also maskenlos auf einer Probenoberfläche zu erzeugen. Dieses Verfahren wird genutzt, um z. B. Objekte miteinander zu verbinden (Nanobonding), elektrische Leiterbahnen oder freistehende Strukturen zu erzeugen oder um fotolithografische Masken zu reparieren (siehe Stand der Forschung). Über die bisherige Nutzung des EBiD-Verfahrens in Form überwiegend passiver Strukturen hinaus ist im wachsenden Entwicklungsfeld mikro- und nanoskaliger elektromechanischer Systeme (MEMS und NEMS) sowie der Mikro- und Nanorobotik besonders die Herstellung nanoskaliger, funktionaler Strukturen mit sensorischen und aktorischen Ei-genschaften von Interesse. Dieses Arbeitsgebiet, insbesondere die MEMS und NEMS Entwicklung, wird gegenwärtig fast ausschließlich durch klassische Silicium-Mikromechanik (Wafer-Prozessierung) abgedeckt. Obwohl das EBiD-Verfahren durch sequentielles, direktes Schreiben der gewünschten Strukturen sehr viel zeitaufwändiger ist als die Silicium-Mikromechanik, bietet es deutliche Vorteile, die besonders bei einer Kombination beider Verfahren zum Tragen kommen. Beispielsweise können Bauteile, die in klassischer Silicium-Mikromechanik gefertigt werden, unabhängig von der in der Mikromechanik durch die Wafergeometrie und Wafer-Kristallstruktur vorgegebenen Fertigungsrichtung im Nachhinein mit funktionalisierenden Strukturen versehen werden.Die Funktionalität komplexer, z. B. sensorischer oder aktorischer Strukturen ist abhängig von verschiedenen Materialeigenschaften der Struktur selbst. Neben der in der Literatur sehr ausführlich beschriebenen elektrischen Eigenschaften elektronenstrahl-induzierter Abscheidungen sind sowohl mechanische als auch thermische Charakteristika von Interesse, die in der Regel von der Zusammensetzung und Morphologie des Materials abhängen. Da z. B. sensorische und aktorische Strukturen oftmals thermi-schen und mechanischen Belastungen ausgesetzt sind, ist die Kenntnis dieser Eigenschaften für eine präzise Modellierung der Strukturen unumgänglich.In diesem Projekt sollen aus oben genannten Gründen die mechanischen und thermischen Eigenschaften sowie die morphologische Zusammensetzung der aus zwei ausgewählten Precursoren abgeschiedenen Materialien ermittelt werden. Zudem soll deren Abhängigkeit von Prozessparametern während des Abscheideprozesses und der Alterung der erzeugten Strukturen untersucht werden. Die dabei erwarteten Ergebnisse ermöglichen ein detailliertes Verständnis des Abscheideprozesses und somit dessen Optimierung und Beeinflussung im Hinblick auf die Herstellung funktionaler Strukturen mit präzise definierten Eigenschaften.