Development of in-situ TEM measurement system and its application to nanoelectronics
Development of in-situ TEM measurement system and its application to nanoelectronics
批准号:
21560681
负责人:
ARITA Masashi
金额:
$3.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2011
中文摘要
近年来,电子器件的发展受到人们的广泛关注,其中几何结构和磁性微纳米结构对电子性能的贡献很大。在这项工作中,原位透射电子显微镜(i。e.原位TEM)被引入到这些研究中,其中TEM图像观察和电测量同时进行。为了实现这些实验,开发了特殊的TEM夹具。其中一个是带有压电致动器的保持器(即,e. TEM-STM保持器),另一种是电磁系统(称为TEM-MF保持器)。使用TEM-STM保持器,清楚地观察到电阻性RAM(ReRAM)层内导电细丝的形成和消失。该结果支持ReRAM开关的细丝模型。另一方面,确认了由TEM-MF保持器产生的施加磁场引起的磁畴的运动。原位TEM方法的效用被清楚地证明。
英文摘要
In recent years, development of electronic devices is energetically investigated, where geometrical and magnetic mictro-and nano-structures contribute to the electronic properties. In this work, in-situ transmission electron microscopy (i. e. in-situ TEM) was introduced to these studies, where TEM image observations and electric measurements were simultaneously performed. To realize these experiments, special TEM holders were developed. One of them was a holder with a piezo actuator (i. e. TEM-STM holder), and the other was with an electromagnet system (named as a TEM-MF holder). Using the TEM-STM holder, formation and disappearance of a conductive filament inside the resistive RAM (ReRAM) layer was clearly observed. This result supports the filament model for ReRAM switching. On the other hand, the motion of the magnetic domain caused by the applied magnetic field generated by the TEM-MF holder was confirmed. Utility of in-situ TEM method was clearly demonstrated.
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Co酸化物を用いたモノポーラ動作ReRAMにおける多値動作の可能性
使用 Co 氧化物的单极操作 ReRAM 中多级操作的可能性
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[川西敬仁, 高見沢圭佑, 藤井孝史, 浜田弘一, 有田正志, 高橋庸夫]
通讯作者:
高橋庸夫
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
Key Engineering Materials
影响因子:
--
作者:
[Y.Takahashi, M.Jo, T.Kaizawa, Y.Kato, M.Arita, A.Fujiwara, Y.Ono, H.Inokawa, J.-B.Choi]
通讯作者:
J.-B.Choi
TEM内電気伝導計測のための特殊ホルダー開発とその応用
TEM电导测量专用支架的研制及其应用
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Ohya, K. Nagahama, T. Ouchi, 大矢裕一, 大矢裕一, 大矢裕一, 藤井孝史, 近藤洋史, 梶宏道, 曹民圭, 開澤拓弥, 開澤拓弥, 曹民圭, C. K. Lee, Neil M. Zimmerman, 小野行徳, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 西口克彦, 藤井孝史, 高橋庸夫, 川西敬仁, 加藤勇樹, 曹民圭, 加藤勇樹, 梶宏道, 高橋庸夫, 有田正志]
通讯作者:
有田正志
ReRAM応用に向けたNiO薄膜の熱酸化温度とフォーミング電圧の関係
ReRAM应用NiO薄膜热氧化温度与形成电压的关系
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Ohya, K. Nagahama, T. Ouchi, 大矢裕一, 大矢裕一, 大矢裕一, 藤井孝史, 近藤洋史, 梶宏道, 曹民圭, 開澤拓弥, 開澤拓弥, 曹民圭, C. K. Lee, Neil M. Zimmerman, 小野行徳, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 有田正志, 西口克彦, 藤井孝史, 高橋庸夫, 川西敬仁, 加藤勇樹, 曹民圭, 加藤勇樹, 梶宏道, 高橋庸夫, 有田正志, 高橋庸夫, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 徳田良平, 工藤昌輝, 曹民圭, 藤井孝史, 曹民圭, 藤井孝史, 徳田良平, 曹民圭, 高橋庸夫, 曹民圭, 藤井孝史, 梶宏道, 近藤洋史]
通讯作者:
近藤洋史
TEM-STMを用いたReRAMスイッチング現象のその場観察
使用 TEM-STM 原位观察 ReRAM 开关现象
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T. Morimura, M. Hasaka, S. Kondo, H. Nakashima, H. Maeda, 有田正志]
通讯作者:
有田正志
共 72 条
Preparation of Ferromagnetic Nano-dot system and Its Magneto-Resistance
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批准号:13650708
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.75万
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财政年份:2001
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负责人:ARITA Masashi
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依托单位:
海外基金