Suppression of dendrite growth in electrochemical reactions based on modeling of growing interfaces
Suppression of dendrite growth in electrochemical reactions based on modeling of growing interfaces
批准号:
23750239
负责人:
FUKAMI Kazuhiro
金额:
$2.25万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011 至 2012
中文摘要
研究了对可充电电池中枝晶生长的抑制。我们发现疏水多孔电极,如多孔硅,导致多孔结构内电沉积的极大增强。借助于统计力学理论,揭示了当表面呈现疏水性时,金属离子的表面浓度会大大增加。以多孔硅为基体可明显抑制电沉积过程中枝晶的生长。这一结果源于高电流效率,即使施加的电流密度远高于极限电流。
英文摘要
Suppression of dendrite growth in rechargeable batteries was studied. We have found that hydrophobic porous electrodes such as porous silicon lead to an extreme enhancement of electrodeposition within the porous structures. With an aid of the statistical-mechanical theory, it has been revealed that the surface concentration of metal ions was greatly enriched when the surface shows hydrophobic property. The growth of dendrites in electrodeposition was strongly suppressed when using porous silicon as a host matrix. This result originates from a high current efficiency even when applying a current density much higher than the limiting current.
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Electrodeposition of platinum into chemically-modified microporous silicon substrates
将铂电沉积到化学改性的微孔硅基底上
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Ryo Koda, Tomoko Urata, Kazuhiro Fukami, Tetsuo Sakka, Yukio H. Ogata]
通讯作者:
Yukio H. Ogata
ミクロ多孔質電極を用いた亜鉛デンドライトの抑制
使用微孔电极抑制锌枝晶
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[幸田吏央, 深見一弘, 作花哲夫, 尾形幸生]
通讯作者:
尾形幸生
Electrodeposition of noble metals into chemically modified microporous silicon substrates
将贵金属电沉积到化学改性的微孔硅基底上
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Ryo Koda, Kazuhiro Fukami, Tetsuo Sakka, Yukio H. Ogata]
通讯作者:
Yukio H. Ogata
ミクロ多孔質シリコンへの白金電解析出に伴う置換析出の寄与
微孔硅上铂电解沉积相关的置换沉淀的贡献
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[小山輝, 幸田吏央, 深見一弘, 作花哲夫, 尾形幸生]
通讯作者:
尾形幸生
ナノポーラス電極を用いた亜鉛電析におけるデンドライト抑制の物理モデル
使用纳米多孔电极电沉积锌时枝晶抑制的物理模型
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[幸田吏央, 深見一弘, 作花哲夫, 尾形幸生]
通讯作者:
尾形幸生
共 9 条
The formation of μ-TAS by electropolymerization of conducting polymer into porous silicon
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批准号:19850012
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
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资助金额:$1.76万
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财政年份:2007
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负责人:FUKAMI Kazuhiro
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依托单位:
海外基金