Integrated Gas System Based on Molecular Flow in Ultra-Fine Silicon Structures
Integrated Gas System Based on Molecular Flow in Ultra-Fine Silicon Structures
基于超细硅结构分子流的集成气体系统
批准号：
23760145
负责人：
KUBOTA Masanori
金额：
$2.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2011
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2011 至 2012
中文摘要
翻译
作者研制了用于大气中有毒气体监测的集成微气体系统的基本技术，该系统由气泵、压力表、气体传感器和控制大规模集成电路等组成。宽度小于100 nm、深度为几微米的超细沟槽对于在大气压下在这样小的芯片上驱动/测量分子起着重要作用。提出了一种硅深腐蚀和超临界流体沉积连续工艺制备沟槽的方法。利用该方法研制了一种新型导热压力传感器。
英文摘要
The author developed elemental technologies for Integrated micro gas system which consists of gas pump, pressure gauge, gas sensor and control LSI etc. for toxic gas monitoring in atmosphere. Ultra-fine trenches having less than 100 nm in width and several micron in depth play important role to actuate/measure molecules on such a small chip at atmospheric pressure. A trench fabrication method by successive process of silicon deep etching and supercritical fluid deposition was developed. A novel Thermal conductive pressure sensor was developed by utilizing the method.
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High precision measurement of on-wafer LED device by CMOS-MEMS probe card with electrical contact sensing function
利用具有电接触传感功能的 CMOS-MEMS 探针卡对晶圆上 LED 器件进行高精度测量
利用具有电接触传感功能的 CMOS-MEMS 探针卡对晶圆上 LED 器件进行高精度测量
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Kota Hosaka, Masanori Kubota, Yu-Tang Chen, and Yoshio Mita]
通讯作者：
and Yoshio Mita
Evaluation of Silicon Fracture Strength Dependence on Stealth Dicing ayers for "Cleave-before-Use" MEMS Freestanding Cantilever Probes
评估“使用前切割”MEMS 独立式悬臂探针的硅断裂强度对隐形切割层的依赖性
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DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Masanori Kubota, Kota Hosaka, Masakazu Sugiyama, and Yoshio Mita]
通讯作者：
and Yoshio Mita
久保田 雅則,"Thermal Conductivity Pressure Sensors on the Basis of Ultra-Fine Silicon Structures"(超微細シリコン立体構造を用いた熱伝導圧力センサ),東京大学博士学位論文, 2012.
Masanori Kubota，“基于超精细硅结构的热导压力传感器”，博士论文，东京大学，2012 年。
Masanori Kubota，“基于超精细硅结构的热导压力传感器”，博士论文，东京大学，2012 年。
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
A 50 nm-Wide 5μm-Deep Copper Vertical Gap Formation Method by A Gap-Narrowing Post-Process with Supercritical Fluid Deposition for Pirani Gauge Operating over Atmospheric Pressure
针对大气压下皮拉尼真空计的超临界流体沉积窄间隙后处理形成 50 nm 宽 5μm 深铜垂直间隙的方法
针对大气压下皮拉尼真空计的超临界流体沉积窄间隙后处理形成 50 nm 宽 5μm 深铜垂直间隙的方法
DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Masanori Kubota, Yoshio Mita, Takeshi Momose, Aiko Kondo, Yoshihiro Shimogaki, Yoshiaki Nakano, Masakazu Sugiyama]
通讯作者：
Masakazu Sugiyama
A 50 nm-Wide 5 μm-Deep Copper Vertical Gap Formation Method by A Gap-Narrowing Post-Process with Supercritical Fluid Deposition for Pirani Gauge Operating over Atmospheric Pressure
针对大气压下皮拉尼真空计的超临界流体沉积窄间隙后处理形成 50 nm 宽 5 μm 深铜垂直间隙的方法
针对大气压下皮拉尼真空计的超临界流体沉积窄间隙后处理形成 50 nm 宽 5 μm 深铜垂直间隙的方法
DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
[飯島広成, 加藤勇人, 三角隆太，仁志和彦，上ノ山周, 戸森央貴,平田祐介,中村太郎, 久保田 雅則]
通讯作者：
久保田 雅則
共 16 条