Mass spectrometry of positive ions and neutral species in the effluent of an atmospheric pressure plasma with hexamethyldisiloxane and oxygen
Mass spectrometry of positive ions and neutral species in the effluent of an atmospheric pressure plasma with hexamethyldisiloxane and oxygen
复制标题
用六甲基二硅氧烷和氧气对大气压等离子体流出物中的正离子和中性物质进行质谱分析
DOI：
10.1088/0022-3727/46/46/464017
复制
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T. Benter
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
J. Benedikt;D. Ellerweg;S. Schneider;K. Rügner;R. Reuter;H. Kersten;T. Benter
通过分子束质谱法对混合有六甲基二硅氧烷 (HMDSO) 和 O 2 的 He 中非平衡大气压等离子体射流的流出物进行了研究。已检测到正离子和中性等离子体化学产物，并讨论了它们在高质量 SiO 2 薄膜沉积中的可能作用。正离子光谱揭示了质子化水簇和H+: HMDSO 和H 3 O+: HMDSO 离子的存在。这些离子很可能是通过光电离产生的。在 50-300 nm 波长范围内获得的光学发射光谱数据证实了这一点，其中观察到以 84 nm 为中心的氦准分子连续谱发射。未检测到 HMDSO 的离子驱动聚合产物。中性物质的测量可以量化 HMDSO 的消耗以及三甲基硅烷醇和五甲基二硅氧烷的绝对密度。还观察到两种中性聚合产物。结果表明，HMDSO 的 Si-O 键优先断裂。此外，还讨论了等离子体化学产品的质量平衡。
The effluent of a non-equilibrium atmospheric pressure plasma jet in He with admixture of hexamethyldisiloxane (HMDSO) and O 2 has been investigated by means of molecular beam mass spectrometry. Positive ions and neutral plasma chemistry products have been detected and their possible role in the deposition of good-quality SiO 2 films is discussed. Positive ion spectra reveal the presence of protonated water clusters and H+: HMDSO and H 3 O+: HMDSO ions. These ions are most probably produced by photoionization. This is corroborated by optical emission spectroscopy data obtained in the wavelength range of 50–300 nm, where helium excimer continuum emission centred around 84 nm has been observed. No ion driven polymerization products of HMDSO have been detected. Measurements of neutral species have allowed the quantification of the HMDSO depletion and absolute densities of trimethylsilanol and pentamethyldisiloxane. Two neutral polymerization products have been observed as well. The results indicate that the Si–O bond of HMDSO is preferentially broken. Additionally, the mass balance of plasma chemistry products is discussed.
登录
查看更多内容
N2/N2O/HMDSO 混合物供给的大气压汤森放电中的输运现象
影响因子：
3.5
作者：
I. Enache;Hubert Caquineau;N. Gherardi;T. Paulmier;L. Maechler;F. Massines
通讯作者：
F. Massines
影响因子：
3.8
作者：
B. Niermann;R. Reuter;T. Kuschel;J. Benedikt;M. Böke;J. Winter
通讯作者：
B. Niermann;R. Reuter;T. Kuschel;J. Benedikt;M. Böke;J. Winter
影响因子：
4
作者：
R. Reuter;N. Gherardi;J. Benedikt
通讯作者：
R. Reuter;N. Gherardi;J. Benedikt
深入了解常压下 SiO2 薄膜沉积的反应方案
影响因子：
3.5
作者：
K. Rügner;R. Reuter;D. Ellerweg;A. von Keudell;J. Benedikt
通讯作者：
J. Benedikt
深入了解甲基二硅氧烷前体薄膜的大气压等离子体增强化学气相沉积
影响因子：
3.5
作者：
F. Fanelli;S. Lovascio;R. D'agostino;F. Fracassi
通讯作者：
F. Fracassi