Impact energy and retained dose uniformity in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation
Impact energy and retained dose uniformity in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation
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增强辉光放电等离子体浸没离子注入中的冲击能量和保留剂量均匀性
DOI：
10.1063/1.3204697
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发表时间：
2009-08
影响因子：
4
通讯作者：
Lu, Qiu Yuan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Fu, Ricky K. Y.;Li, Jian Hui;Li, Liu He;Chu, Paul K.;Lu, Qiu Yuan
通过数值和实验研究了增强辉光放电等离子体浸没离子注入 (EGD-PIII) 中的注入能量和保留剂量均匀性。对 EGD-PIII 和传统 PIII 处理的不同样品获得的深度剖面进行了比较。通过对深度剖面下的面积进行积分来计算不同脉冲宽度下的保留剂量。我们的结果表明，该技术对冲击能量和保留剂量均匀性的改善是显着的。
The implantation energy and retained dose uniformity in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation (EGD-PIII) is investigated numerically and experimentally. Depth profiles obtained from different samples processed by EGD-PIII and traditional PIII are compared. The retained doses under different pulse widths are calculated by integrating the area under the depth profiles. Our results indicate that the improvement in the impact energy and retained dose uniformity by this technique is remarkable.
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影响因子：
1.5
作者：
S. Nikiforov;Guang-Hoon Kim;G. Rim
通讯作者：
S. Nikiforov;Guang-Hoon Kim;G. Rim
影响因子：
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作者：
Liuhe Li;Yuzheng Wu;Yingxi Zhang;R. Fu;P. Chu
通讯作者：
Liuhe Li;Yuzheng Wu;Yingxi Zhang;R. Fu;P. Chu
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作者：
S. Qi;X. Lifang;Ma Xinxin;Sun Mingren
通讯作者：
S. Qi;X. Lifang;Ma Xinxin;Sun Mingren
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5.4
作者：
Liuhe Li;R. Fu;R. Poon;S.C.H. Kwok;P. Chu;Y. Q. Wu;Y. H. Zhang;Xun Cai;Qiulong Chen;Ming Xu
通讯作者：
Liuhe Li;R. Fu;R. Poon;S.C.H. Kwok;P. Chu;Y. Q. Wu;Y. H. Zhang;Xun Cai;Qiulong Chen;Ming Xu
DOI：
10.1016/j.jcp.2007.01.004
发表时间：
2007-07
期刊：
J. Comput. Phys.
影响因子：
--
作者：
C. Cornet;D. Kwok
通讯作者：
C. Cornet;D. Kwok