Studies on the residual stress of fluorine-doped SnO2 film deposited by chemical vapor deposition
Studies on the residual stress of fluorine-doped SnO2 film deposited by chemical vapor deposition
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化学气相沉积掺氟SnO2薄膜残余应力研究
DOI：
10.1016/j.tsf.2012.04.032
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发表时间：
2012-06
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Zhang, Fucheng
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yang, Jingkai;Zhao, Hongli;Chen, Qian;Liu, Shengbo;Sha, Hesong;Zhang, Fucheng
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DOI：
10.1016/j.mseb.2008.10.037
发表时间：
2009-03
影响因子：
3.6
作者：
U. Dagkaldiran;A. Gordijn;F. Finger;H. M. Yates;P. Evans;D. W. Sheel;Z. Remeš;M. Vaněček
通讯作者：
U. Dagkaldiran;A. Gordijn;F. Finger;H. M. Yates;P. Evans;D. W. Sheel;Z. Remeš;M. Vaněček
影响因子：
2.1
作者：
F. Vaz
通讯作者：
F. Vaz
影响因子：
29.4
作者：
Fan Yang;Stephen R. Forrest
通讯作者：
Fan Yang;Stephen R. Forrest
影响因子：
4.1
作者：
S. Ikhmayies;R. Ahmad-bitar
通讯作者：
S. Ikhmayies;R. Ahmad-bitar
影响因子：
3.5
作者：
Serin, T;Serin, N;Pakma, O
通讯作者：
Pakma, O