Molecular dynamics simulations of organic polymer dry etching at high substrate temperatures
Molecular dynamics simulations of organic polymer dry etching at high substrate temperatures
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高基板温度下有机聚合物干法蚀刻的分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Hamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Yamashiro;H.Yamada;S.Hamaguchi
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合成方式对聚对苯撑形貌和结构的影响
DOI：
10.1007/bf01132014
发表时间：
1987
期刊：
影响因子：
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作者：
P. Pradère;A. Boudet
通讯作者：
A. Boudet
聚合物薄膜反应离子蚀刻过程中传热的作用
影响因子：
1.4
作者：
B. C. Dems;F. Rodriguez
通讯作者：
F. Rodriguez
使用 N2/H2 和 N2/NH3 气体在超高频等离子体中蚀刻有机低介电薄膜
影响因子：
3.2
作者：
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通讯作者：
T. Goto
等离子体处理的建模和仿真方法
DOI：
10.1147/rd.431.0199
发表时间：
1999
期刊：
IBM J. Res. Dev.
影响因子：
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作者：
S. Hamaguchi
通讯作者：
S. Hamaguchi
使用 N2 和 H2 气体化学进行有机低介电薄膜各向异性蚀刻的等离子体诱导次表面反应
影响因子：
1.5
作者：
H. Nagai;M. Hiramatsu;M. Hori;T. Goto
通讯作者：
T. Goto