Polymer-Sturucture Dependence of Acid Generation in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
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化学放大极紫外光刻胶中酸生成的聚合物结构依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Micheal J. LEESON
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;Seiichi Tagawa;Heidi B. CAO;Hai DENG;Micheal J. LEESON
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暴露于极紫外辐射时产酸效率对产酸剂分子结构的依赖性
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Appl. Phys. Express
影响因子：
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作者：
R. Hirose;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
用于极紫外光刻的化学放大抗蚀剂中吸收系数和产酸效率对产酸剂浓度的依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
R. Hirose;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸分布不均匀的潜在原因
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者：
H. Komano
化学放大极紫外光刻胶模型系统中的产酸效率
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
具有碰撞各向异性和非常量平均自由程的随机游走的描述
影响因子：
1.2
作者：
T. Goulet;Isabelle Mattél;J. Jay
通讯作者：
J. Jay