Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography
Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography
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用于极紫外光刻的化学放大抗蚀剂中吸收系数和产酸效率对产酸剂浓度的依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Shimokawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R. Hirose;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
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化学放大极紫外光刻胶模型系统中的产酸效率
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
各种聚合物在极紫外区光吸收的理论计算
影响因子：
1.5
作者：
N. Matsuzawa;H. Oizumi;S. Mori;S. Irie;S. Shirayone;E. Yano;S. Okazaki;A. Ishitani;D. Dixon
通讯作者：
D. Dixon
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
--
作者：
T. Kozawa;T. Shigaki;K. Okamoto;A. Saeki;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
化学放大电子束和X射线抗蚀剂的聚合物筛选方法
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics 43
影响因子：
--
作者：
H.Yamamoto;A.Nakano;K.Okamoto;T.Kozawa;S.Tagawa
通讯作者：
S.Tagawa
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1.4
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通讯作者：
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