Ultra-thin Oxide Layer Formation on Cu-9%Al(111) Surface and Pd Growth Studied by RHEED and AES
Ultra-thin Oxide Layer Formation on Cu-9%Al(111) Surface and Pd Growth Studied by RHEED and AES
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超薄%20Oxide%20Layer%20Formation%20on%20Cu-9%Al(111)%20Surface%20and%20Pd%20Growth%20Study%20by%20RHEED%20and%20AES
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.Nemsak,M.Yoshitake,K.Masek
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M.Yoshitake,W.Song;V.Matolin;J.Libra;K.Masek;F.Sutara;K.C.Prince;M.Yoshitake and W.Song;W.Song and M.Yoshitake;S.Nemsak,M.Yoshitake,K.Masek
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Al2O3 (111)/NiAl (110) 上 Pd 薄膜生长的 RHEED 研究
DOI：
10.1016/j.tsf.2004.05.109
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
作者：
V. Moroz;Y. Lykhach;M. Yoshitake
通讯作者：
M. Yoshitake
Rh 颗粒在绝缘体基底上的生长：RHEED 研究
DOI：
10.1016/s0040-6090(96)08550-1
发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
--
作者：
K. Mašek;V. Matolín
通讯作者：
V. Matolín
Cu–9at.%Al(111) 上生长的有序氧化膜的 AES 和 LEED 研究
影响因子：
1.7
作者：
M. Yoshitake;S. Bera;Y. Yamauchi
通讯作者：
Y. Yamauchi
X射线光电子能谱分析氧化铝/NiAl(110)上钯超薄膜的生长和热稳定性
影响因子：
1.7
作者：
Weijie Song;M. Yoshitake;T. Lay
通讯作者：
T. Lay
通过低能电子衍射和俄歇电子能谱研究 Cu-9%Al(111) 上的氧吸附。
DOI：
10.1116/1.1560719
发表时间：
2003
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
M. Yoshitake;S. Bera;Y. Yamauchi;Weijie Song
通讯作者：
Weijie Song