Implementation of a reuse process for liquid crystal displays using an eccentric-form tool.
Implementation of a reuse process for liquid crystal displays using an eccentric-form tool.
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DOI：
10.3390/ijms10094178
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发表时间：
2009-09-24
影响因子：
5.6
通讯作者：
Pa PS
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Pa PS
这项研究提出了一种新的纳米技术应用，涉及ITO薄膜去除再利用过程中使用的偏心形式的负电极，提供从液晶显示器（LCD）的表面的快速去除率。对于精密去除工艺，负电极的少量偏心或负电极的较高旋转速度对应于ITO的较高蚀刻速率。电解质的较高流速和较高工作温度也对应于较高的去除速率。偏心率的平均效果优于脉冲电流的效果，而电流额定值不需要因关断时间而延长。
This study presents a new nanotechnology application involving an ITO thin-film removal reuse process using an eccentric-form negative electrode, offering a fast removal rate from the surface of liquid crystal displays (LCDs). For the precision removal process, a small amount of eccentricity of the negative electrode or a higher rotational speed of the negative electrode corresponds to a higher etching rate for the ITO. A higher flow velocity of the electrolyte and a higher working temperature also correspond to a higher removal rate. The average effect of the eccentricity is better than the effects of a pulsed current, while the current rating need not be prolonged by the off-time.
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DOI：
10.1524/zpch.217.4.299.20383
发表时间：
2003-01-01
影响因子：
2.5
作者：
Cagnon, L;Kirchner, V;Kück, H
通讯作者：
Kück, H
影响因子：
5
作者：
MILEHAM, AR;HARVEY, SJ;STOUT, KJ
通讯作者：
STOUT, KJ
影响因子：
3.1
作者：
TAKABATAKE, M;OHWADA, J;KONISHI, N
通讯作者：
KONISHI, N
影响因子：
2.3
作者：
Kim, BH;Ryu, SH;Chu, CN
通讯作者：
Chu, CN
影响因子：
5.4
作者：
Kim, D;Kim, S
通讯作者：
Kim, S