On-site SiH4 generation using high-density microwave H2 plasma generated in narrow slit-type discharge gap
On-site SiH4 generation using high-density microwave H2 plasma generated in narrow slit-type discharge gap
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使用窄缝型放电间隙中产生的高密度微波 H2 等离子体现场生成 SiH4
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K. Yasutake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiromasa Ohmi;F. Shinoda;N. Takei;H. Kakiuchi;K. Yasutake
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发表时间：
2008
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通讯作者：
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