Nano-photomask fabrication using focused ion beam direct writing
Nano-photomask fabrication using focused ion beam direct writing
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使用聚焦离子束直写的纳米光掩模制造
DOI：
10.1016/j.cirp.2010.03.038
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Q. Fu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
FZ Fang;ZW Xu;XT Hu;CT Wang;X.G. Luo;Y.Q. Fu
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原子力显微镜中碳纳米管探针的制造和配置
DOI：
10.1016/j.cirp.2009.03.088
发表时间：
2009
期刊：
CIRP Annals - Manufacturing Technology
影响因子：
--
作者：
Fang, F. Z.;Xu, Z. W.;Zhang, G. X.;Hu, X. T.
通讯作者：
Hu, X. T.
影响因子：
3.5
作者：
Hopman, Wico C. L.;Ay, Feridun;de Ridder, Rene M.
通讯作者：
de Ridder, Rene M.
DOI：
10.1201/9781420028782
发表时间：
2005-04
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Syed Rizvi
通讯作者：
Syed Rizvi
影响因子：
13.3
作者：
Tseng, AA
通讯作者：
Tseng, AA
影响因子：
3.8
作者：
Yongqi Fu;N. Bryan
通讯作者：
Yongqi Fu;N. Bryan