Band offsets between amorphous La2Hf2O7 and silicon
Band offsets between amorphous La2Hf2O7 and silicon
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非晶La2Hf2O7和硅之间的能带偏移
DOI：
10.1016/s1002-0721(12)60142-2
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发表时间：
2012-08
影响因子：
4.9
通讯作者：
Zhang Wenhua
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Cheng Xuerui;Wang Yongqiang;Qi Zeming;Zhang Guobin;Wang Yuyin;Shao Tao;Zhang Wenhua
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DOI：
10.1116/1.1365132
发表时间：
2001-05
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
S. Chambers;Yong Liang;Z. Yu;R. Droopad;J. Ramdani
通讯作者：
S. Chambers;Yong Liang;Z. Yu;R. Droopad;J. Ramdani
影响因子：
4
作者：
Y. Zhu;Sun Chen;R. Xu;Z. Fang;J. Zhao;Y. L. Fan;Xiliang Yang;Zheng Jiang
通讯作者：
Y. Zhu;Sun Chen;R. Xu;Z. Fang;J. Zhao;Y. L. Fan;Xiliang Yang;Zheng Jiang
影响因子：
4
作者：
Liu, D.;Tse, K.;Robertson, J.
通讯作者：
Robertson, J.
影响因子：
1.4
作者：
Young-Bae Kim;M. Kang;Taeho Lee;Jinho Ahn;D. Choi
通讯作者：
Young-Bae Kim;M. Kang;Taeho Lee;Jinho Ahn;D. Choi
影响因子：
4
作者：
R. Yasuhara;M. Komatsu;H. Takahashi;S. Toyoda;J. Okabayashi;H. Kumigashira;M. Oshima;D. Kukuruznyak;T. Chikyow
通讯作者：
R. Yasuhara;M. Komatsu;H. Takahashi;S. Toyoda;J. Okabayashi;H. Kumigashira;M. Oshima;D. Kukuruznyak;T. Chikyow