Low Temperature Direct Bonding of PMMA for Polymer Microchips
Low Temperature Direct Bonding of PMMA for Polymer Microchips
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用于聚合物微芯片的 PMMA 低温直接键合
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Shoji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Shinohara;M.Ishizuka;J.Mizuno;S.Shoji
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氧在真空紫外线中的吸收系数。
影响因子：
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作者：
G. L. Weissler;Po Lee
通讯作者：
Po Lee
大气压辉光等离子体的应用：大气压等离子体处理装置“Aiplasma”的实际应用
DOI：
10.1585/jspf.79.1022
发表时间：
2003
期刊：
Journal of Plasma and Fusion Research
影响因子：
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作者：
Y. Sawada
通讯作者：
Y. Sawada
PMMA热压印和直接键合制备微通道器件
DOI：
10.1109/icmens.2004.66
发表时间：
2004
期刊：
International Conference on MEMS, NANO, and Smart Systems
影响因子：
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作者：
J. Mizuno;T. Harada;T. Glinsner;M. Ishizuka;T. Edura;K. Tsutsui;H. Ishida;S. Shoji;Y. Wada
通讯作者：
Y. Wada
O(1D) 在 Si(100) 氧化中的作用
DOI：
10.1116/1.1563254
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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作者：
T. Kaspar;A. C. Tuan;R. Tonkyn;W. Hess;J. W. Rogers;Y. Ono
通讯作者：
Y. Ono
远程氧等离子体处理聚合物表面改性的二次离子质谱飞行时间和原位 X 射线光电子能谱研究
DOI：
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发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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作者：
L. Lianos;D. Parrat;Tran Quoc Hoc;T. Duc
通讯作者：
T. Duc