Stractural analysis of NiO ultra-thin films epitaxially grown on ultra-smooth sapphire substrates by synchrotron X R D
Stractural analysis of NiO ultra-thin films epitaxially grown on ultra-smooth sapphire substrates by synchrotron X R D
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同步加速器 X R D 在超光滑蓝宝石衬底上外延生长 NiO 超薄膜的结构分析
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M.Yahimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
O.Sakata;Mis-Suyi;A.Matsuda;J.Liu;S.Sato;S.Akiba;A.Sasaki;M.Yahimoto
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Ge(001): Te(1X1) 表面结构的 X 射线散射研究
DOI：
10.1103/physrevb.61.16692
发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
作者：
O. Sakata;P. Lyman;B. Tinkham;D. Walko;D. Marasco;Tien;M. Bedzyk
通讯作者：
M. Bedzyk
Si(111) 衬底上室温外延生长 CeO2 薄膜以制备尖锐的氧化物/硅界面
影响因子：
1.5
作者：
M. Yoshimoto;Kazuki Shimozono;T. Maeda;T. Ohnishi;M. Kumagai;T. Chikyow;O. Ishiyama;M. Shinohara;Hideomi Koinuma Hideomi Koinuma
通讯作者：
Hideomi Koinuma Hideomi Koinuma
表面活性剂介导的Si/Ge/Si(001)异质结构外延生长的X射线散射研究
DOI：
10.1063/1.1288703
发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
作者：
W. Rodrigues;O. Sakata;Tien;D. Walko;D. Marasco;M. Bedzyk
通讯作者：
M. Bedzyk
DOI：
10.1143/jjap.33.6656
发表时间：
1994-12-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
影响因子：
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作者：
KITAO, M;IZAWA, K;YAMADA, S
通讯作者：
YAMADA, S
CoO-NiO超晶格：与Ni81Fe19的层间相互作用和交换各向异性（特邀）
DOI：
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发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Carey;A. Berkowitz
通讯作者：
A. Berkowitz