Fatigue Behavior of LP-CVD Polycrystalline Silicon Thin Film under Cyclic Tension
Fatigue Behavior of LP-CVD Polycrystalline Silicon Thin Film under Cyclic Tension
复制标题
LP-CVD多晶硅薄膜循环张力下的疲劳行为
DOI：
--
复制
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K. Suzuki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Takechi;Q. Chen;K. Kusukawa;S. Kariya;M. Ohira;K. Suzuki
登录
查看更多内容
利用片上测试和电子显微镜研究多晶硅结构薄膜的疲劳和磨损
DOI：
10.1557/proc-821-p2.5
发表时间：
2004
期刊：
MRS Proceedings
影响因子：
--
作者：
D. Alsem;E. Stach;C. Muhlstein;M. Dugger;R. Ritchie
通讯作者：
R. Ritchie
用于微机电系统应用的多晶硅疲劳：谐振负载条件下的裂纹扩展和稳定性
影响因子：
3.9
作者：
C. Muhlstein;R. Howe;R. Ritchie
通讯作者：
R. Ritchie
影响因子：
2.3
作者：
Chuang, Wen-Hsien;Fettig, Rainer K.;Ghodssi, Reza
通讯作者：
Ghodssi, Reza
单晶硅微元的断裂和疲劳强度评价及水的影响。
DOI：
10.1299/kikaia.62.978
发表时间：
1996
期刊：
Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. A
影响因子：
--
作者：
K. Komai;K. Minoshima;Shigemichi Inoue;H. Fujii
通讯作者：
H. Fujii
影响因子：
2.7
作者：
Muhlstein, CL;Brown, SB;Ritchie, RO
通讯作者：
Ritchie, RO