Competitiveness of negative tone resists for nanoimprint lithography
Competitiveness of negative tone resists for nanoimprint lithography
复制标题
用于纳米压印光刻的负性光刻胶的竞争力
DOI：
10.1016/j.mee.2014.05.017
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发表时间：
2014
影响因子：
2.3
通讯作者：
Hella-Christin Scheer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Khalid Dhima;Christian Steinberg;Andre Mayer;Si Wang;Marc Papenheim;Hella-Christin Scheer
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