Effects of Hydrogen Dilution Ratio on Properties of Hydrogenated Nanocrystalline Cubic Silicon Carbide Films Deposited by Very High-Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Effects of Hydrogen Dilution Ratio on Properties of Hydrogenated Nanocrystalline Cubic Silicon Carbide Films Deposited by Very High-Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
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氢气稀释比对甚高频等离子体增强化学气相沉积氢化纳米晶立方碳化硅薄膜性能的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Konagai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Miyajima;M. Sawamura;A. Yamada;and M. Konagai
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DOI：
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