Effects of diffusion constant of photodecomposable quencher on chemical gradient of chemically amplified extreme-ultraviolet resists
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光分解猝灭剂扩散常数对化学放大极紫外光刻胶化学梯度的影响
DOI：
10.7567/jjap.54.056502
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T. Kozawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Kozawa
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DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
D. V. Steenwinckel;R. Gronheid;J. Lammers;F. V. Roey;P. Willems
通讯作者：
P. Willems
光分解碱：稳定化学增强抗蚀剂的新概念
影响因子：
0.8
作者：
S. Funato;Y. Kinoshita;T. Kudo;S. Masuda;H. Okazaki;M. Padmanaban;K. Przybilla;N. Suehiro;G. Pawlowski
通讯作者：
G. Pawlowski
使用化学放大抗蚀剂的亚毫秒曝光后烘烤解决光刻挑战
DOI：
10.1117/12.879288
发表时间：
2011
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
B. Jung;C. Ober;M. Thompson;T. Younkin;M. Chandhok
通讯作者：
M. Chandhok
用于极紫外光刻的化学放大抗蚀剂中吸收系数和产酸效率对产酸剂浓度的依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
R. Hirose;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸分布不均匀的潜在原因
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者：
H. Komano