T.Matsuda: "Oscillatory Behavior in Electrochemical Deposition Reaction of Polycrystalline Silicon Thin Films through Reduction of Silicon Tetrachloride in a Molten Salt Electrolyte" Chem.Lett.569-570 (1996)
T.Matsuda: "Oscillatory Behavior in Electrochemical Deposition Reaction of Polycrystalline Silicon Thin Films through Reduction of Silicon Tetrachloride in a Molten Salt Electrolyte" Chem.Lett.569-570 (1996)
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T.Matsuda：“通过在熔盐电解质中还原四氯化硅来实现多晶硅薄膜电化学沉积反应中的振荡行为”Chem.Lett.569-570 (1996)
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DOI：
10.1063/1.326011
发表时间：
1979
期刊：
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作者：
T. Chu;S. Chu;C. L. Lin;R. Abderrassoul
通讯作者：
R. Abderrassoul
原硅酸四乙酯在有机溶剂中的阴极沉积非晶硅
DOI：
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发表时间：
1981
期刊：
影响因子：
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作者：
Y. Takeda;R. Kanno;O. Yamamoto;T. Mohan;Chia‐Hao Lee;F. A. Kröger
通讯作者：
F. A. Kröger
影响因子：
3.9
作者：
AGRAWAL, AK;AUSTIN, AE
通讯作者：
AUSTIN, AE
DOI：
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发表时间：
1988
期刊：
影响因子：
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作者：
J. Gobet;H. Tannenberger
通讯作者：
H. Tannenberger
DOI：
10.1149/1.2114103
发表时间：
1985
期刊：
影响因子：
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作者：
O. Teschke;F. Galembeck;M. A. Tenan
通讯作者：
M. A. Tenan