Advanced Beam Processes for Precise Top-Down Patterning
Advanced Beam Processes for Precise Top-Down Patterning
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先进的光束工艺可实现自上而下的精确图案化
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Seiji Samukawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
遠藤和彦;寒川誠二;Kazuhiko Endo;Seiji Samukawa;寒川 誠二;寒川 誠二;大竹浩人;久保田智広;石川健治;野田周一;Hiroto Ohtake;Tomohiro Kubota;Kenji Ishikawa;Shuichi Noda;寒川 誠二;寒川 誠二;寒川誠二;寒川誠二;寒川誠二;久保田智広;野田周一;寒川誠二;Seiji Samukawa;Tomohiro Kubota;Shuichi Noda;Seiji Samukawa
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DOI：
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发表时间：
1988
期刊：
影响因子：
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作者：
T. Mizutani;S. Nishimatsu
通讯作者：
S. Nishimatsu
影响因子：
2.9
作者：
Samukawa, S;Sakamoto, K;Ichiki, K
通讯作者：
Ichiki, K
高功率快原子束源及其在干法刻蚀中的应用
DOI：
10.1116/1.578252
发表时间：
1992
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
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作者：
F. Shimokawa
通讯作者：
F. Shimokawa
金属蚀刻等离子体加工放电中真空紫外光谱的绝对强度
DOI：
10.1116/1.582044
发表时间：
1999
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
J. Woodworth;M. Riley;V. A. Amatucci;T. W. Hamilton;B. Aragon
通讯作者：
B. Aragon