A Customizable and Low-Cost Ultraviolet Exposure System for Photolithography.
A Customizable and Low-Cost Ultraviolet Exposure System for Photolithography.
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DOI：
10.3390/mi13122129
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发表时间：
2022-12-01
期刊：
影响因子：
3.4
通讯作者：
Ko, Jina
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Reynolds, David Eun;Lewallen, Olivia;Galanis, George;Ko, Jina
对于研究、工业和商业领域的微流体器件制造，光刻胶上图案的固化和转移依赖于紫外 (UV) 光。通常，此步骤由商业掩模对准器或紫外灯曝光系统执行；然而，这些机器往往价格昂贵、体积庞大且不易接近。为了找到替代解决方案，我们提出了一种廉价、可定制且轻便的紫外线曝光系统，该系统用户友好且易于用于自制洁净室。我们制造了一个便携式紫外线曝光系统，成本不到 200 美元。晶圆支架的高度可调，可以选择适当的固化距离，这证明了我们的系统能够轻松针对不同应用进行定制。通过在设备中添加光扩散膜，可以实现 4” 直径晶圆支架上的高光均匀性（光强度误差约为 2.9%）。这些值与商业掩模对准器（ABM 3000HR 掩模对准器）的 5” 直径晶圆支架上的光均匀性相当，后者的光强度误差约为 4.0%。我们展示了通过制造微流体装置和生成均匀微滴来进行高质量光刻的能力。我们实现了与 ABM 3000HR 掩模对准器制造的晶圆图案、微流体器件和液滴相当的质量。
For microfluidic device fabrication in the research, industry, and commercial areas, the curing and transfer of patterns on photoresist relies on ultraviolet (UV) light. Often, this step is performed by commercial mask aligner or UV lamp exposure systems; however, these machines are often expensive, large, and inaccessible. To find an alternative solution, we present an inexpensive, customizable, and lightweight UV exposure system that is user-friendly and readily available for a homemade cleanroom. We fabricated a portable UV exposure system that costs under $200. The wafer holder’s adjustable height enabled for the selection of the appropriate curing distance, demonstrating our system’s ability to be easily tailored for different applications. The high light uniformity across a 4” diameter wafer holder (light intensity error ~2.9%) was achieved by adding a light diffusing film to the apparatus. These values are comparable to the light uniformity across a 5” diameter wafer holder from a commercial mask aligner (ABM 3000HR Mask Aligner), that has a light intensity error of ~4.0%. We demonstrated the ability to perform photolithography with high quality by fabricating microfluidic devices and generating uniform microdroplets. We achieved comparable quality to the wafer patterns, microfluidic devices, and droplets made from the ABM 3000HR Mask Aligner.
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作者：
通讯作者：
--
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Santra, T. S.
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Huntington, Mark D.;Odom, Teri W.
通讯作者：
Odom, Teri W.
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Mir, Monica;Kumar Dondapati, Srujan;Katakis, Ioanis
通讯作者：
Katakis, Ioanis
DOI：
10.1088/0022-3735/19/9/001
发表时间：
1986-09-01
期刊：
JOURNAL OF PHYSICS E-SCIENTIFIC INSTRUMENTS
影响因子：
--
作者：
STEVENSON, JTM;GUNDLACH, AM
通讯作者：
GUNDLACH, AM