コンタクトレスエッチング光電気化学エッチングによるリセスゲート AlGaN/GaN HEMT の作製 (2)

コンタクトレスエッチング光電気化学エッチングによるリセスゲート AlGaN/GaN HEMT の作製 (2)
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非接触刻蚀光电化学刻蚀制备凹栅AlGaN/GaN HEMT(2)

DOI:
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发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
佐藤 威友
佐藤 威友
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
渡久地 政周;三輪 和希;堀切 文正;福原 昇;成田 好伸;吉田 丈洋;佐藤 威友

文献摘要

参考文献

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