In situ photoemission study of interface and film formation during epitaxial growth of Er2O3 film on Si(001) substrate
In situ photoemission study of interface and film formation during epitaxial growth of Er2O3 film on Si(001) substrate
复制标题
Si(001)衬底上外延生长Er2O3薄膜界面及成膜过程的原位光电子研究
DOI：
10.1016/s1002-0721(09)60003-x
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发表时间：
2008-12
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
LIU Yongsheng
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
ZHU Yanyan;CHEN Sheng;LIAO Can;FANG Zebo;LIU Yongsheng
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影响因子：
4
作者：
Shantao Zhang;Yi Zhang;Ming-Hui Lu;C. Du;Yan-Feng Chen;Zhi-guo Liu;Yong‐yuan Zhu;N. Ming
通讯作者：
Shantao Zhang;Yi Zhang;Ming-Hui Lu;C. Du;Yan-Feng Chen;Zhi-guo Liu;Yong‐yuan Zhu;N. Ming
影响因子：
4
作者：
Y. Zhu;Sun Chen;R. Xu;Z. Fang;J. Zhao;Y. L. Fan;Xiliang Yang;Zheng Jiang
通讯作者：
Y. Zhu;Sun Chen;R. Xu;Z. Fang;J. Zhao;Y. L. Fan;Xiliang Yang;Zheng Jiang
影响因子：
4
作者：
D. Triyoso;R. Hegde;J. Schaeffer;D. Roan;P. Tobin;S. Samavedam;B. White;R. Gregory;X. Wang
通讯作者：
D. Triyoso;R. Hegde;J. Schaeffer;D. Roan;P. Tobin;S. Samavedam;B. White;R. Gregory;X. Wang
影响因子：
6.7
作者：
J. Ramdani;R. Droopad;Z. Yu;J. Curless;C. Overgaard;J. Finder;K. Eisenbeiser;J. Hallmark;W. Ooms;V. Kaushik;P. Alluri;S. Pietambaram
通讯作者：
J. Ramdani;R. Droopad;Z. Yu;J. Curless;C. Overgaard;J. Finder;K. Eisenbeiser;J. Hallmark;W. Ooms;V. Kaushik;P. Alluri;S. Pietambaram
影响因子：
1.9
作者：
R. Xu;Z. Yan;S. Chen;Yongliang Fan;X. Ding;Zuimin Jiang;Zheshen Li
通讯作者：
R. Xu;Z. Yan;S. Chen;Yongliang Fan;X. Ding;Zuimin Jiang;Zheshen Li