Investigation of the dynamics of the Z-pinch imploding plasma for a laser-assisted discharge produced Sn plasma EUV source
Investigation of the dynamics of the Z-pinch imploding plasma for a laser-assisted discharge produced Sn plasma EUV source
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研究激光辅助放电产生的 Sn 等离子体 EUV 源的 Z 箍缩内爆等离子体的动力学
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et.al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Q.Zhu;K.Horioka;E.Hotta;et.al.
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带粒子注入的夹紧等离子体 EUV 源
DOI：
10.1088/0022-3727/37/23/008
发表时间：
2004
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
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作者：
M. McGeoch
通讯作者：
M. McGeoch
高重复率激光烧蚀放电 EUV 光源中激光参数对转换效率的依赖性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
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作者：
Y. Teramoto;T. Yokoyama;H. Mizokoshi;Hiroto Sato;K. Hotta
通讯作者：
K. Hotta
锡 DPP 源极收集器模块 (SoCoMo)：Beta 产品状态和 HVM 开发
DOI：
10.1117/12.846545
发表时间：
2010
期刊：
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影响因子：
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作者：
M. Yoshioka;Y. Teramoto;P. Zink;G. Schriever;G. Niimi;Marc Corthout
通讯作者：
Marc Corthout
HCT EUV 光源的物理特性
DOI：
10.1117/12.472271
发表时间：
2002
期刊：
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影响因子：
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作者：
J. Pankert;K. Bergmann;J. Klein;W. Neff;O. Rosier;S. Seiwert;Christopher Smith;R. Apetz;J. Jonkers;Michael Loeken;G. Derra
通讯作者：
G. Derra
基于正负极性操作的密集等离子体焦点的 EUV 放电光源
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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作者：
I. Fomenkov;N. Bowering;C. Rettig;S. Melnychuk;I. Oliver;J. Hoffman;O. Khodykin;Richard M. Ness;W. Partlo
通讯作者：
W. Partlo