Mapping of interfacial reaction of a-Ga2O3 Schottky contacts using scanning internal photoemission microscopy

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使用扫描内部光电显微镜绘制 a-Ga2O3 肖特基接触的界面反应图

DOI:
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发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
and Takashi Shinohe
and Takashi Shinohe
中科院分区:
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文献类型:
--
作者:
Kenji Shiojima;Hitoshi Kambara;Tokiyoshi Matsuda;and Takashi Shinohe

文献摘要

参考文献

被引文献

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