Tribological Properties of Amorphous Boron Nitride Films Prepared by Nanopulse Plasma CVD
Tribological Properties of Amorphous Boron Nitride Films Prepared by Nanopulse Plasma CVD
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纳脉冲等离子体CVD制备非晶氮化硼薄膜的摩擦学性能
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Naoto Ohtake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masanori Saito;Toshiyuki Yasuhara;Hiroya Murakami;Naoto Ohtake
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影响因子：
1.5
作者：
O. Tsuda;Kenji Watanabe;T. Taniguchi
通讯作者：
O. Tsuda;Kenji Watanabe;T. Taniguchi
PLD和CVD方法生长的纳米结构取向碳膜
DOI：
10.1007/s00339-004-2862-0
发表时间：
2004
期刊：
Applied Physics A
影响因子：
--
作者：
E. Cappelli;S. Orlando;G. Mattei;C. Scilletta;F. Corticelli;P. Ascarelli
通讯作者：
P. Ascarelli
影响因子：
4
作者：
Nose, K.;Oba, H.;Yoshida, T.
通讯作者：
Yoshida, T.
射频沉积混合相 BN 薄膜的特性
DOI：
10.1016/0040-6090(93)90650-e
发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
--
作者：
D. Cameron;M. Karim;M. Hashmi
通讯作者：
M. Hashmi
410 具有晶粒择优取向的 TiN 涂层的摩擦学性能
DOI：
10.1299/jsmeintmp.10.1.269
发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Azushima;K. Aoki;H. Iwata
通讯作者：
H. Iwata