Flow Condition in Resist Spray and Patterning Performance for Three-Dimensional Photolithographyover Deep Structures
Flow Condition in Resist Spray and Patterning Performance for Three-Dimensional Photolithographyover Deep Structures
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深层结构三维光刻抗蚀剂喷涂的流动条件和图案化性能
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Esashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
V.Singh;M.Sasaki;K.Hane;M.Esashi
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DOI：
10.1109/sensor.2003.1215601
发表时间：
2003
期刊：
TRANSDUCERS '03. 12th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems. Digest of Technical Papers (Cat. No.03TH8664)
影响因子：
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作者：
M. Ichiki;L. Zhang;Z. Yang;T. Ikehara;R. Maeda
通讯作者：
R. Maeda
三维光刻喷涂技术中光刻胶的加热效应
影响因子：
1.5
作者：
V. Singh;M. Sasaki;J. Song;K. Hane
通讯作者：
K. Hane
三维微光学工作台上的光学扫描仪
影响因子：
4.7
作者：
M. Sasaki;T. Yamaguchi;J. H. Song;K. Hane;M. Hara;K. Hori
通讯作者：
K. Hori
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Sasaki;S. Nogawa;K. Hane
通讯作者：
K. Hane