Recent Diagnostics Results of EUV Source and EUV Induced Plasmas
Recent Diagnostics Results of EUV Source and EUV Induced Plasmas
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EUV 源和 EUV 诱导等离子体的最新诊断结果
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kentaro Tomita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Romain Wagner;Kohei Yuki;Satoshi Ito;Hidetoshi Hashizume;Kentaro Tomita
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通过光散射技术对光学表面进行原位和异位表征
DOI：
10.1117/1.oe.53.9.092013
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Trost;T. Herffurth;S. Schröder;A. Duparré;M. Beier;S. Risse;A. Tünnermann;N. Böwering
通讯作者：
N. Böwering
增强高温 LPP 收集镜的反射率和稳定性
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Optical Engineering + Applications
影响因子：
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作者：
T. Feigl;S. Yulin;M. Perske;H. Pauer;M. Schürmann;N. Kaiser;N. Böwering;O. Khodykin;I. Fomenkov;D. Brandt
通讯作者：
D. Brandt
极紫外多层涂层的角度分辨散射和反射率：测量和分析。
影响因子：
1.9
作者：
S. Schröder;T. Herffurth;M. Trost;A. Duparré
通讯作者：
A. Duparré
接口设计的 EUV 多层反射镜
DOI：
10.1016/j.mee.2006.01.126
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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作者：
S. Yulin;N. Benoit;T. Feigl;N. Kaiser
通讯作者：
N. Kaiser
ETS 脉冲 EUV 源 Mo/Si 多层光学器件寿命研究
DOI：
10.1117/12.891803
发表时间：
2011
期刊：
Optics + Optoelectronics
影响因子：
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作者：
M. Schürmann;S. Yulin;V. Nesterenko;T. Feigl;N. Kaiser;B. Tkachenko;M. Schürmann
通讯作者：
M. Schürmann