Contour Lithography Methods for DRIE Fabrication of Nanometre-Millimetre-Scale Coexisting Microsystems
Contour Lithography Methods for DRIE Fabrication of Nanometre-Millimetre-Scale Coexisting Microsystems
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用于 DRIE 制造纳米-毫米级共存微系统的轮廓光刻方法
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Tadashi Shibata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshio Mita;Masanori Kubota;Tomoyuki Harada;Frederic Marty;Bassam Saadany;Tarik Bourouina;Tadashi Shibata
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利用 RIE 滞后在 Si 中制造面外曲面
DOI：
10.1109/memsys.2002.984225
发表时间：
2002
期刊：
Technical Digest. MEMS 2002 IEEE International Conference. Fifteenth IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (Cat. No.02CH37266)
影响因子：
--
作者：
T. Chou;K. Najafi
通讯作者：
K. Najafi
V型槽晶圆上高深宽比硅壁组成的一维光子晶体的光学特性
DOI：
10.1016/j.photonics.2005.11.005
发表时间：
2006
期刊：
Photonics and Nanostructures: Fundamentals and Applications
影响因子：
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作者：
K. Hosomi;T. Fukamachi;H. Yamada;T. Katsuyama;Y. Arakawa
通讯作者：
Y. Arakawa
用于毫米级多层垂直/倾斜硅结构的嵌入式掩模方法
DOI：
10.1109/memsys.2000.838533
发表时间：
2000
期刊：
Proceedings IEEE Thirteenth Annual International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (Cat. No.00CH36308)
影响因子：
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作者：
Y. Mita;M. Mita;A. Tixier;J. Gouy;H. Fujita
通讯作者：
H. Fujita
DOI：
10.1109/sensor.1995.717127
发表时间：
1995
期刊：
Proceedings of the International Solid-State Sensors and Actuators Conference - TRANSDUCERS '95
影响因子：
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作者：
Y. Fukuta;T. Akiyama;H. Fujita
通讯作者：
H. Fujita
影响因子：
2.2
作者：
Marty, F;Rousseau, L;Bourouina, T
通讯作者：
Bourouina, T